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型号
高真空磁控溅射镀膜设备JCP200品牌
北京泰科诹/span>产地
北京样本
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设备型号 JCP200
真空腔室结构 立式上开盖结枃/p>
真空腔室尺寸 Φ220mm×H300mm
加热温度 室温 500ℂ/p>
基片台尺寸: Φ100mm
膜厚不均匀性: Φ50mm 范围内≤ ±5.0%
溅射靶: Φ2 英寸磁控 1 兼容 DC/RF 溅射
工艺气体 ?-2 路气体流量控刵/p>
控制方式 :PLC + 触摸屏控刵/p>
占地面积 (主机) :L600mm×W800mm×H1700mm
总功 :≥ 6kW
暂无数据
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