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纳米高纯硅研磨粒子是抛光?主要的组成部分,在抛光过程中通过微切削、滚压等方式作用亍/span>
被加工材料表面,达到机械去除材料的作用。纳米高纯硅是以水玻璃为原材料制备的硅溶胶研磨粒
子。鼎龙自主开发了具有纯度高、粒径分布窄、去除效率高的纳米高纯硅研磨粒子,实现了抛光涱/span>
核心原材料自主可控?nbsp;

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