规格外形(长*?高)9/p>143*128*106*4
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清洗是贯穿半导体产业链的重要工艺环节,用于去除半导体硅片制造、晶圆制造和封装测试每个步骤中可能存在的杂质,避免杂质影响芯片良率和芯片产品性能。清洗步骤数量约占所有芯片制造工序步骤的 30%以上,是所有芯片制造工艺步骤中占比**的工序。随着技术节点的继续进步,清洗工序的数量和重要性将继续随之提升、/p>
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