磨抛盘直径:
-主轴转速:
-单位能耗:
-装机功率(kw):
-成品细度9/p>-
工作原理9/p>其他
虚拟号将180秒后失效
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全自?2寸晶圆抛光机
为应对当前高端集成电路制造国产化趋势,研发出12吋全自动高产能CMP(化学机械研磨)设备,满足客户多种工艺应用场景需求、提供整体解决方案,**化地降低客户设备运维成本、提高单位面?单位时间的产出率、/p>
设备特点
多线程跑货,高WPH
模块化布局,分区维抣/p>
自主研发多分区研磨头
干进干出,马兰戈尼提拉干?/p>
搭配在线量测IM,实现APC
高速响应、高精度Endpoint技?/p>
用于Oxide/Si/STI/W/Cu/Poly等CMP制程
可支持天车系统,实现全自动派?/p>
适配全工业化生产系统MES/RMS/FDC/PMS筈/p>
具备自主知识产权创新技?/p>
标准机台尺寸:长5.7m*?.8m*?.7m
暂无数据