非金属电热元件：
其他金属电热元件９/p>其他
烧结气氛９/p>真空
温控精度９/p>1ℂ/span>
最高温度：
1450额定温度９/p>1400
看了MOCVD bake 炉，烤盘炉，烘烤炉的用户又看亅/p>
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真空烤盘炉（Bake炉）是MOCVD（金属有机化学气相沉积）关键配合工艺装备，专用于清除石墨载盘（碳化硅涂层）表面残留的氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP（/span>等化合物杂质。通过高温真空技?/span>，可实现载盘表面污染物的高效分解与蒸发，恢复石墨载盘皃/span>洁净度，延长使用寿命，降位/span>LED、射频芯片、激光器等半导体制造企业的耗材成本、/span>
高产胼/span>
¨有效工作区域达到710X710X1600mm,适用
MOCVD各种石墨盘的清理
¨采用高强度石墨板，可承载更多产品、/span>
¨降低单位产品的能源消耗、/span>
温度、气流均匀
¨独特的上下两区控温设计，整炉温度均一
性达?/span>≤?ℂ/span>、/span>
¨优化设计的进气系统，保证气流流动更均
匀、/span>
¨均匀的热场和气流同时协作，保证石墨盘
清理更均匀，干净、/span>
高配?/span>
¨采用日本原装进口石墨硬毡，挥发物更少＋/span>
烘烤气氛更纯净、/span>
¨美国热电偶，日本质量流量计，真空计等、/span>
¨全面革新的温控系统，人机界面、/span>
LED芯片制速/span>
·GaN基LED外延牆/span>：蓝?白光LED生产后石墨托盘去污；
·Micro-LED产线：高精度载盘维护，保障微米级外延均匀性、/span>
化合物半导体制速/span>
·射频器件（GaAs（/span>?G基站放大器、毫米波芯片载盘再生：/span>
·光通信激光器（InP（/span>：DFB/EML激光器外延托盘清洗、/span>
研发与代工服加/span>
·半导体研究院所、晶圆代工厂皃/span>MOCVD设备配套维护：/span>
·第三代半导体＇/span>SiC、GaN）功率器件产线耗材管理、/span>
真空烤盘炈/span> |
VB-1600 |
工作尺寸mm |
710*710*1600 |
**温度ℂ/span> |
1450 |
使用温度ℂ/span> |
1400 |
温度分布ℂ/span> |
幅倻/span>?（?（/span> |
极限真空Pa |
1 |
电源容量KVA |
170 |
使用气体 |
N2,N2/H2 Mix |
设备尺寸mm3 |
3517X3300X2400 |
联系方式：邹先生?3567******
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移动?/p>
工商已核宝/p>
