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型号
氢气纯化器及钯膜组成的氢能系绞/span>品牌
高谦功能产地
江苏样本
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氢气纯化器Hydrogen Purifier
基于公司金属钯膜的氢气纯化系统具有体积小、操作简单、产氢纯度高等优势，能够有效截留除氢气之外的其它任何物质，不仅与氢能需求具?*的契合度，而且在CVD培育钻石、电子芯片、粉末冶金、MOCVD、色谱分析载气、光伏、核能等众多高科技产业都有广泛应用、/span>
利用只有氢原子才能透过钯晶格的特性，可以实现对氢气的**选择性，即在压力驱动下，氢气能够很容易地透过钯膜，而其它任何气体都不能透过，即使对氦气也可以有效截留，这是其它氢气纯化方法无法企及的、/span>
主要特点Main Features
体积小巧、维护成本低 |
一键启动、操作简侾/span> |
原料氢气适配性广 |
输出氢气纯度髗/span>,?/span>99.9999999%(9N) |
独立自主知识产权 |
氢气纯化成本位/span> |
型号UHP |
2L |
3M |
5M |
10M |
20M |
**处理野/span> |
5L/min |
60L/min |
100L/min |
175L/min |
340L/min |
纯化方式 |
钯膜氢气纯化 |
||||
输出氢气纯度 |
?/span>99.99999998(9N与原料纯度相兲/span>) |
||||
**操作压力 |
1MPa |
2.5MPa |
2.5MPa |
2.5MPa |
2.5MPa |
设备接口尺寸 |
1/8" |
1/4" |
3/8" |
1/2" |
3/4" |
设备**功率 |
0.8kw |
1.3kw |
1.9kw |
2.8lkw |
3.5kw |
电源供应 |
AC220~240V.50/60Hz |
||||
设备尺寸(mm) |
600*450*270 |
600*800*800 |
600*800*800 |
600*800*1000 |
800*1000*1000 |
*上表仅列出部分产品型号，可根据现场工艺要求提供定制服务，参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准、/span>
超纯氢气发生器Ultrapure Hydrogen Generator
超纯氢气发生器采用长寿命PEM纯水电解和钯膜管纯化氢气相结合的方式直接输出超高纯氢气。应用氢气纯化领?理想的纯化工艺一钯膜管纯化，确保输出的氢?*纯度大于99.99999%、/span>
超纯氢气发生器采用全自动一键操作，配备水质在线分析、超压保护、氢气泄漏报警等保护模块，确保发生器具有优秀的稳定性和安全?可选配氢气纯化在线监测模块，实时监测输出氢气纯度、/span>
主要特点Main Features
一键启动、操作简侾/span> |
净输出流量稳定 |
输出氢气纯度髗/span>,?/span>99,99999% |
体积小巧、维护成本低 |
主要应用 Main Application
氢能储氢系统加注 |
金属粉末冶金保护 |
MPCVD培育钻石?/span>MOCVD外延生长 |
气相色谱GC、气相色谰/span>-质谱联用?/span>GC-MS |
制氢 |
PEM电解纯水 |
纯化 |
钯膜管纯匕/span> |
输出氢气纯度(**纯度) |
?/span>99.99999%.N2<0.01pom＋/span>H2O<0.01ppm |
输出氢气压力 |
0-10 bar(**可选配3.2MPa) |
输出氢气流量 |
0.5~10sL/min(可逈/span>) |
水质要求 |
去离子，ASTMⅡ，<0.1uS |
电源 |
220-240V＋/span>50-60Hz功与制氢流量相关 |
氢气出口 |
1/4VCR接头 |
尾气出口 |
1/4"双卡套接夳/span> |
设备尺寸 |
600*800*800mm |
*上述参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准、/span>
钯膜Palladium Membrane
钯膜对氢气具有良好的通透性，且能截留除氢之外的其它任何气体，因而可用于氢气分离与纯化、制氢、氢回收等领域。相对于传统的轧制钯膜，负载于多孔陶瓷或不锈钢基材上的复合钯膜厚度更薄。具有强度高、渗透率高，成本低且易放大等诸多优点、/span>
基于钯膜的氢分离器操作简便、效率高、体积小，是小规模制氢系统的优选，尤其适用于半导体用氢和氢能发电系?如甲醇重整反?钯膜纯化+燃料电池)。钯膜具有高温稳定性，还可用作制氧、加氢、脱氢等反应的膜催化反应器、/span>
公司在钯膜的制备、封装、集成，以及氢气纯化系统的制造等关键技术领域拥有多项国内外发明、/span>
基体材料 |
多孔陶瓷或多孔不锈钢 |
膜管长度(mm) |
50-1200 |
膜管外径(mm) |
45828 |
钯膜厚度(μm) |
2-50可逈/span> |
操作温度(C、/span>) |
300-500 |
原料气压劚/span>(MPa) |
>5 |
原料气纯?/span>(%) |
>20 |
输出氢气纯度(%) |
>7N，与原料氢气纯度相关 |
氢气回收玆/span>(%) |
>75 |
H2/N2理想选择?/span> |
>100000 |
暂无数据
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