纯度９/p>99.99%
目数９/p>Dn (50) <80 nm
匠芯时代氧化铇/p>
匠芯时代CO-030
国产氧化铇/p>
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一、产品应用：
可应用于半导体CMP抛光材料、石油催化裂化、汽车尾气净化、护肤品抗紫外线材料、抗氧化剂、生物医学成像等、/p>
二、基本信息：
分子弎/span> Molecular Formula |
CeO2 |
摩尔质量 Molar Mass |
172.115 g/mol |
密度 Density |
7.65 g/cm3 |
颗粒?/span> Particle Size |
Dn(50)<80nm |
三、CMP抛光用纳米氧化铈 测试数据９/p>
测试顸/span> |
结果 |
测试顸/span> |
结果 |
颗粒名称 |
氧化铇/span> |
浓度 |
0.0001% |
颗粒折射玆/span> |
2.200 |
径距 |
0.860 |
颗粒吸收玆/span> |
0.100 |
一致?/span> |
0.290 |
分散剂名?/span> |
Water |
比表面积 |
4432m2/kg |
分散剂折射率 |
1.330 |
D[3,2] |
0.190µm |
散射模型 |
Mie |
D [4,3] |
0.492µm |
分析模型 |
通用 |
Dn(50) |
0.0784µm |
加权残差 |
2.09% |
Dn(90) |
0.123µm |
激光遮光度 |
2.13% |
Dn(100) |
1.02µm |
暂无数据
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