参考价栻/p>5-10万元
型号
GMSD2000-297品牌
SGN/思峻产地
上海样本
暂无
金牌会员
|?0平/p>|
生产啅/p>
工商已核宝/p>
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全容积（m³）：
0.1-10000L能耗：
4-160kw处理量：
300-50000L/H物料类型９/p>液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等
工作原理９/p>立式
SGN/思峻混合朹/p>
SGN/思峻GMSD2000-297
国产混合朹/p>
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一、产品概?/span>
GMSD2000 管线式一体化研磨分散设备，专为锂电隔膜纳米二氧化硅陶瓷涂覆浆料连续化生产设计。设备集成锥面研磨腔体与多级高剪切分散单元，可一次性完成气相二氧化硅粉体解聚、湿法研磨、液相润湿、粘结剂均质混合，有效破除二氧化硅粉体硬团聚，严控浆料粒径分布，杜绝涂层颗粒白点、隔膜微孔堵塞、浆料静置絮凝沉降等问题。整机密闭管线式连续进料，无粉尘污染，金属杂质可控，完全满足锂电池洁净制浆标准，是二氧化硅隔膜涂覆液量产的核心前处理设备、/span>
二、工作原琅/span>
物料连续进入主机腔体，首先进入精密研磨工位，依靠定转子高速挤压、摩擦、撞击，打碎二氧化硅粉体硬团聚结块；随后物料自动流入多级剪切腔体，在微米级狭小间隙内产生高强度湍流，剥离颗粒间软团聚，让原生纳米颗粒均匀分散在水溶液中，并与 PVDF 粘结剂充分融合。物料一次过机即可完成破碎、研磨、分散三道工序，无需多次循环加工，浆料粒径窄、稳定性强，保证隔膜涂层轻薄均匀，不堵塞透气微孔。整机可配套夹套降温，控制剪切温升，避免浆料凝胶化、/span>
三、核心优劾/span>
采用前置研磨 + 后置高剪切双级串联结构，先破除二氧化硅硬团聚再精细化分散，一次过机即可消除浆料颗粒杂质；全系列机型统一转子线速度与工作间隙，实验室小样工艺能够零偏差线性放大至连续生产线，彻底解决小试分散稳定、量产反复团聚、涂层缺陷多的行业痛点。腔体镜面抛光无死角，可实现 CIP 在位清洗，换料无交叉污染；密闭结构严控重金属析出，机械密封带冷却系统，支持全天候连续管道化制浆，适配高固含二氧化硅悬浮液长期稳定生产、/span>
四、主要技术参?/span>
型号 |
标准流量＇/span>L/h（/span> |
转速（rpm（/span> |
线速度＇span style="font-family:Calibri">m/s（/span> |
马达功率＇/span>KW（/span> |
进出口尺寷/span> |
GMSD2000/4 |
300 |
14000 |
41 |
4 |
DN25/DN15 |
GMSD2000/5 |
1500 |
10500 |
41 |
11 |
DN50/DN32 |
GMSD2000/10 |
4000 |
7200 |
41 |
22 |
DN80/DN65 |
GMSD2000/20 |
10000 |
4900 |
41 |
45 |
DN100/DN80 |
GMSD2000/30 |
20000 |
2850 |
41 |
90 |
DN150/DN125 |
GMSD2000/50 |
60000 |
1100 |
41 |
160 |
DN200/DN150 |
研磨分散双腔体一体化作业，一次性打散二氧化硅软硬团聚，全线机型剪切参数统一，隔膜涂覆浆料小样配方可无缝放大量产，有效防止微孔堵塞与浆料沉降
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