参考价栻/p>60-70万元
型号
TM-DAR品牌
TAIMEI大明化学产地
日本样本
暂无
金牌会员
|?平/p>|
代理啅/p>
工商已核宝/p>
留言询价
纯度９/p> 99.995%
目数９/p>500?/span>
tamasakisci氧化铝粉
tamasakisciTM-DAR
国产氧化铝粉
留言询价
咨询TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR
使用微信扫码拨号
TAIMEI（大明化学）TM-DAR是其TAIMICRON系列中纯?*的型号之一，专为透明陶瓷和高洁净度电子应用等高端领域设计、/span>
? 详细产品参数
参数项目TM-DAR 典型倻span style="white-space:pre">备注
相 (Phase)α-Al₂O₂span style="white-space:pre">稳定的α相氧化铜/span>
纯度 (Al₂O? 99.995%系列**纯度，属?N级高纯氧化铝
BET比表面积14.5 m²/g高比表面积，提供优异的烧结活?/span>
一次粒子径0.10 μm超细且均匀的一次粒孏/span>
平均粒子徃span style="white-space:pre">0.05 - 0.2 μm学术文献中给出的范围
松装密度0.9 g/cm³
振实密度1.0 g/cm³系列**，利于成垊/span>
成形密度2.3 g/cm³系列**，在?8 MPa压力下单轴压刵/span>
烧结密度 3.96 g/cm³系列**，可达理论密度的98%以上
烧结温度1250 - 1350ℂspan style="white-space:pre">?300℃以下即可实现致密化烧结
核心特性详觢/span>
**高纯 (5N?：TM-DAR的纯度高达≥99.995%，是TM-D系列中纯?*的型号。关键杂质如Si (<10ppm)、Fe (<8ppm)、Na (<8ppm) 被严格控制，放射性元素铀(U)和钍(Th)含量分别低于0.004ppm?.005ppm、/span>
优异的光学性能：作为高透光性专用型号，通过HIP（热等静压）烧结后，TM-DAR可制备出?00nm波长下透光率大?5% 的透明陶瓷、/span>
出色的低温烧结与成型性能９/span>
低温烧结：可?250℃至1300℃的低温下实现致密化烧结，烧结温度比普通氧化铝?50-200℃、/span>
高成型性：具有系列**的振实密 (1.0 g/cm³) 和成形密 (2.3 g/cm³)。通过表面修饰技术有效防止颗粒团聚，在注射成型时填充率可提升15%以上、/span>
? 同系列产品对毓/span>
为了更清晰地展现TM-DAR的定位，以下是TM-D系列主要型号的关键参数对比：
型号主要特点纯度 (Al₂O?BET (m²/g)一次粒 (μm)松装密度 (g/cm³)振实密度 (g/cm³)成形密度 (g/cm³)烧结密度 (g/cm³)
TM-DA高透光?span style="white-space:pre">?9.99%13.50.100.80.92.23.95
TM-DAR超高纯度?9.995%14.50.100.91.02.33.96
TM-D通用垊span style="white-space:pre">?9.99%13.50.100.80.92.23.95
TM-DR高成形?span style="white-space:pre">?9.99%14.50.100.91.02.33.96
TM-5D粗颗粑span style="white-space:pre">?9.99%9.00.200.80.82.33.93
从上表可见，TM-DAR在纯度、比表面积、振?成形/烧结密度等关键指标上均处于系?*水平、/span>
总体而言，TM-DAR是一款为透明陶瓷、半导体、光学器件及生物医疗等尖端领域设计的超高纯度氧化铝粉体、/span>
TAIMEI（大明化学）TM-DAR是其TAIMICRON系列中纯度最高的型号之一，专为透明陶瓷和高洁净度电子应用等高端领域设计
TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR的工作原理介绍？TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR的使用方法？TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR多少钱一台？TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR的说明书有吗＞/li>TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR的报价含票含运费吗？TAIMEI大明化学低温烧结基础氧化铝粉TM-DAR有现货吗＞/li>凤凰城有办事机构吗？凤凰城销售电话是多少＞/li>
移动?/p>
