参考价栻/p>1万元以下
型号
PLASMA DRUM品牌
产地
日本样本
暂无全容积（m³）：
200L能耗：
0.88A/ 0.4A处理量：
200L物料类型９/p>液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等
工作原理９/p>立式
森泽搅拌朹/p>
森泽PLASMA DRUM
国产搅拌朹/p>
看了日本 J‑SL PLASMA DRUM 常压等离子体处理装置 干式粉体表面改性设备的用户又看亅/p>
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该装置是利用大气压等离子体对粉末表面进行改性的设备、/span>
该装置是利用大气压等离子体对粉末表面进行改性的设备、/span>
将群等离子体作用于容器内的粉末，通过旋转振荡进行搅拌，即可实现均匀的处理、/span>
无需使用危险溶剂，可实现完全的干式处理流程，是一种对环境友好且生产效率极高的设备、/span>
配备了冷却机构，能够处理低熔点的粉末、/span>
规格・详惄/span>
①无需真空机制，采用全干式工艺，操作简单、br/>②可对粉末表面进行均匀处理、br/>③通过选择不同气体，可添加各种官能团、br/>④样品容器的旋转速度可单独控制、br/>⑤使用聚丙烯粉末时，每次可处?升的物料、br/>⑥配有冷却机制，能够处理低熔点的粉末、/span>
用逓/span>
①聚合物粉末表面的亲水化与疏水化处理
②无机物及陶瓷粉末表面的改性处琅br/>③通过选择合适的等离子体气体来引入各种官能团
④通过引入各种官能团来提升树脂和溶剂中的分散?br/>⑤在药品和化妆品领域的应?/span>
常压无真空设计，摒弃传统等离子设备真空机组，省去抽真空等待工序，设备结构简化，操作门槛更低，运行维护成本下降
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