参考价栻/p>1万元以下
型号
9.0×10-4Pa品牌
产地
日本样本
暂无非金属电热元件:
碳化硄/span>金属电热元件9/p>铁铬铝丝
烧结气氛9/p>真空
温控精度9/p>±1ℂ/span>
最高温度:
1270ℂ/span>额定温度9/p>1230ℂ/span>
森泽真空炈/p>
森泽9.0×10-4Pa
国产真空炈/p>
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咨询日本SANVAC 真空 实验室陶瓷金属粉末烧结热处理炈/p>
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SANVAC 小型高温真空炉为实验室研发、小试样烧结、热处理、钎焊、脱气专用紧凑型真空热处理设备,主打小容积、高真空、快速升温。采用钨 / 钼加热器 + 多层辐射反射屏结构,可达 1800℃高温,可实现高真空环境(可 9.0×10⁻⁴Pa 级别),支持真空、惰性气氛工艺。设备炉体紧凑占地小,配备程序温控系统,可设定多段升 / 保温 / 降温曲线,适合陶瓷、金属粉末、硬质合金、功能材料、稀有金属试样的烧结与热分解处理,广泛用于高校、材料研究所、企业研发实验室的新材料开发与小样工艺验证、/p>
本装置用于在高温、真空环境下对小型试样进行热处理。特点:可在 60min 内升温至 1700℃,实现快速升温、/p>

| 极限压力 | 9.0×10⁻⁴Pa 级别(常温、无负载、脱气完成时(/td> |
| 排气速率 | 达到 1.0×10⁻³Pa 耗时?0min(常温、无负载、脱气完成时(/td> |
| 温度 | 可达1800ℂ/td> |
| 升温时间 | 升至 1700℃≤1h |
| 炉膛内部尺寸 | Φ159.2×190mmH,SUS304 材质 |
| 均热匹/td> | Φ30×65mmH |
| 加热结构 | 钨加热器反射屏: / 钼多层结枃/td> |
| 加热控制 | 晶闸管控制PID 温控(含程序温控(/td> |
| 真空排气系统 | 油旋片泵?67L/min?0Hz】油扩散泵:125L/sec |
| 真空讠/td> | 宽量程真空计 |
| 操作方式 | 支持手动 / 自动操作 |
| 控制系统 | 时序控制 + 触摸屎/td> |
| 公用工程条件 | 供电:AC200V 三相 6.5kVA 冷却水:?3L/min?.15MPa~0.2MPa,≤25℃循?/p> 仪表空气:≥0.5MPa 安装尺寸?00mmW × 700mmD × 1405mmH |
紧凑型小型化炉体设计,专为实验室小样开发,占用空间小,试样装载量匹配研发测试需求,无需大型产线炉体投入
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