粉碎程度9/p>超细粉碎
单位能耗:
0.12?.18 kWh/kg产量9/p>20mL
装机功率(kw):
1.5成品细度9/p>3?5μm
入料粒度(mm):
?工作原理9/p>介质研磨
森泽球磨朹/p>
森泽LP-M2C
国产球磨朹/p>
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merupakan型号为冷却式LP-1C的桌面版升级机型。LP-M2C在运行过程中能够对粉碎区域进行强力冷却,从而将粉碎容器内的温度控制在接近常温的20~40℃左右,因此几乎不会对样品造成热影响。该设备配有2个粉碎容器,每个容器的容量为45毫升。粉碎容器的材质有多种选择,包括氧化铝、部分稳定化的氧化锆、高纯度氧化铝以及钨等,用户可以根据样品的特性来选择合适的材质。此外,该设备还配备了振动传感器和温度显示功能、/span>
| 电源 | 9/span> | 100伏 50/60赫兹 |
|---|---|---|
| 电机 | 9/span> | 200?/span> |
| 转逞/span> | 9/span> | 台盘的旋转速度 可达500?分钟 |
| 外形尺寸 | 9/span> | W640×D672×H313毫米 |
| 重量 | 9/span> | ?0Kg |
| 计时?/span> | 9/span> | 数字减法运算 可长?9小时59分钟 |
冷却温控一体化结构、/span>自带冷却系统,研磨腔维持 20~40℃区间,抑制研磨生热对热敏物料造成影响,适合低熔点、易氧化、生物活性类粉体长时间连续研磨、/p>
双罐行星悬挂研磨结构、/span> 45mL 悬挂式磨罐,行星运动形成冲击 + 剪切复合作用力,可实现微米至亚微米级粉体细化;支持干法、湿法两种研磨工艺,适配小样平行对照试验、/p>
多样化研磨罐材质选配、/span>提供玛瑙、氧化锆、氧化铝、钨钢等罐体方案,可规避金属杂质污染,适配高纯陶瓷、电池、医药粉体等高洁净需求场景、/p>
自带冷却系统,研磨腔维持 20~40℃区间,抑制研磨生热对热敏物料造成影响,适合低熔点、易氧化、生物活性类粉体长时间连续研磨
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一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坟/p>
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