参考价栻/p>1万元以下
型号
Profile® II品牌
产地
美国样本
暂无生产能力(kg/h):
1?m³/h适用物料9/p>CMP浆料
过滤面积(c㎡)9/p>40
工作原理9/p>其他
自动化程度:
其他性能9/p>精密过滤
滤料类型9/p>其他
样式9/p>管式
森泽过滤?/p>
森泽Profile® II
国产过滤?/p>
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咨询美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆斘/p>
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用于CMP工艺过滤的高效深度过滤器
用于化学机械抛光工艺的Profile II型深度过滤滤芯,能够有效去除氧化物、钨和铜浆料中的聚集颗粒及凝胶,同时不会扰乱颗粒的分布状态。这类滤芯具有极高的过滤效率,因此几乎不会带走那些有用的浆料颗粒,同时却能大幅减少超大颗粒的残留、/span>
这类深度过滤器的过滤精度可在0.2微米?0微米之间,其过滤精度是传统深度过滤器??0倍。此外,它们还拥有均匀分布的孔结构,从而可实现预过滤功能、/span>
全新滤芯结构与过滤机刵/span>
滤芯外侧部分(锥形孔结构→延长过滤寿命)
该部分孔径随向内延伸而逐渐减小,从而实现高效预过滤;凭借连续的孔径变化与深度过滤效应,可显著延长过滤寿呼/span>
滤芯内侧部分(恒定孔径结构→可靠过滤(/span>
该部分孔径保持恒定且均匀,可实现精准过滤、/span>
材质
| 过滤介质 | 聚丙烯(Polypropylene(/td> |
| 支撑?/td> | 聚丙烯(Polypropylene(/td> |
| 端盖、外笼(MCY、AB 系列(/td> | 聚丙烯(Polypropylene(/td> |
| 端封(RMF 系列(/td> | 桑普雷恩(Santoprene)¸/td> |
¹ 桑普雷恩(Santoprene)为埃克森美孚化工公司商栆/p>
适用外壳
| RF 系列 | 请使 R 系列外壳 |
| MCY 系列 | 请使 M 系列外壳 |
| RMF 系列 | 请使 M 系列外壳 |
| AB 系列 | 请使用相 O 型圈规格 A 系列外壳。规 20 可在线进行蒸汽灭菋/td> |
(注)在 40℃以上高温条件下使用时,请与各营业所咨询、/p>
特点与优?nbsp;
具备额定过滤精度
无滤材转移或剥离现象
低压?nbsp;
无异物泄?nbsp;
高集尘能劚/span>
广泛的流体适用?/span>
规格
| 耐压?/td> | 0.41 MPa(约 30 ℃) 0.34 MPa(约 50 ℃) 0.21 MPa(约 70 ℃) 0.10 MPa(约 82 ℃) |
| 使用温度 | MAX 82 ℂ/td> |

外层大孔径完成预过滤,内层稳定孔径执行精密拦截,一支滤芯实现多级过滤,提升滤芯使用寿命
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