一、核心突破：打破海外壁垒，迈入国际一�?/span>

国内高纯度石英材料领域近期迎来重大突砳�/span>—�精硅科技依靠自主研发的高端再合成技术，实现了超高纯石英砂的稳定量产。这一成果标志着我国在光刻级石英材料领域成功突破海外技术壁垒，正式迈入国际一流行列，为中国光刻产业链注入关键‛�/span>强心剁�/span>“�/span>、�/span>

二、关键背景：石英�?/span>—�光刻机镜头的‛�/span>隐形冠军“�/span>

光刻机是半导体制造中精度最高、成本最昂贵的核心设备，其分辨率直接决定芯片制程水平；而光刻机光学系统的核心部仵�/span>‛�/span>镜头“�/span>，需满足极高的透光性、热稳定性和光学均匀性，普通玻璃完全无法胜任，超高纯度合成石英�?/span>是唯一选择（尤其适配极紫夕�/span> EUV、深紫外DUV光刻机）、�/span>

这类石英锭对材料特性要求苛刻，具体包括９�/span>

纯度极高：杂质总含量需低于0.1ppm：�/span>

缺陷极少：内含气泡和内部缺陷需控制在极低水平；

热稳定性极强：激光照射下热膨胀系数近乎为零、�/span>

微量杂质或内部缺陷会导致光线散射、折射率变化，直接造成芯片制造良率下降甚至失败。因此，作为石英锭源头材料的超高纯石英砂，其纯度直接决定了最终光刻镜头的性能上限、�/span>

三、技术路径：从天然矿石到光刻级材料的提纯逻辑

天然石英矿石含有大量金属杂质（如铁、锂、钾等）及内部缺陷，需通过复杂的物琅�/span> +化学提纯流程，才能达到光刻级纯度。精硅科技构建了全链条技术体系，具体流程如下９�/span>

1�?/span>源头把控：依托自有石英矿山，对矿石进行严格分选与破碎，精准控制晶体粒径，保障原料一致性；

2�?/span>深度除杂：采用高温氯化、酸浸清洗等工艺，深度去除矿石中的金属杂质；

3�?/span>再合成优匕�/span>：通过高端再合成技术，在高温高压环境下让高纯硅源重新结晶，彻底消除内部气泡与杂质分布不均问题、�/span>

四、成果落地：7N纯度量产+商业化验�?/span>

作为国内少数具备超高纯石英砂全链条生产能力的企业，精硅科技已实现两大关键成果：

产能与纯度突砳�/span>：建戏�/span> 10万吨级高纯石英砂产能，并成功攻克7N纯度＇�/span>99.99999%）技术难关，关键杂质元素＇�/span>Fe�?/span>K�?/span>Na等）含量降至0.01ppm以下：�/span>

商业化验证通过：目剌�/span> 7N超纯石英砂已实现批量供应，且在多家下游镜头制造企业、半导体设备厂商中完成验证，性能比肩甚至超越国际主流厂商产品、�/span>

五、行业意义：国产替代‛�span style="font-family:等线">深水匹�/span>�的关键一�?/span>

此前，超高纯石英砂长期被海外企业垄断，是我国半导体产业链自主化进程中皃�/span>‛�/span>卡脖孏�/span>�环节。精硅科技此次实现7N级超高纯石英砂的量产与商业化应用，具有两大核心意义：

1�?/span>筑牢材料基础：为光刻机镜头国产化提供了关键原料支撑，填补了国内光刻级石英材料的产能与技术空白；

2�?/span>提升全球竞争劚�/span>：显著增弹�/span>国内在高端材料领域的全球话语权，推动半导体产业链自主化向‛�/span>深水匹�/span>�迈进、�/span>

未来，随着芯片制程持续微缩、光刻技术迭代升级，对石英材料的纯度与性能要求将进一步提高。精硅科技已率先突砳�/span> 7N技术门槛，后续将继续加码研发与产能扩张，助力中国半导体产业实现从材料到设备的全方位自主可控、�/span>