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JQ-900型区熔单晶生长炉是集机、光、电一体化的大型高可靠性、高精度、高自动化的单晶生长设备，整机性能指标达到同类产品国际**。主要生?-8英寸大规格区熔单晶硅，单晶长?*可达2500mm,单晶纯度可达99.99999999%,，其晶片主要用于IGBT芯片、可控硅、红外探测器以及航天航海等尖端科技领域，另外凭?3%的光电转换效率，我们还可以大胆偿试将其用在光伏发电领域、/span>
1. |
主炉宣/span> |
内炉堂直径[mm] |
Φ902X1190髗/span> |
2 |
上副宣/span> |
炉膛直径[mm] |
Φ500 X1800髗/span> |
3 |
下副宣/span> |
炉膛直径[mm] |
Φ500 X2500髗/span> |
4 |
上传?/span> |
行程[mm] |
2000 |
主轴转速[rpm] |
0-30±1% |
||
主轴直径[mm] |
100 |
||
5 |
下传?/span> |
主轴行程[mm] |
2600 |
主轴转速[rpm] |
0-30±1% |
||
主轴直径[mm] |
100 |
||
内轴行程[mm] |
340 |
||
6 |
平动组件 |
行程[mm] |
±25 |
7 |
槽路组件 |
行程[mm] |
530 |
8 |
反射?/span> |
行程[mm] |
50 |
快速移动速度[mm/min] |
20 |
||
9 |
预热环组仵/span> |
行程[mm] |
285 |
快速移动速度[mm/min] |
100 |
||
10 |
制备外形 |
长X宽X高[mm] |
6600X4200X14000 |
11 |
真空系统 |
真空?mbar) |
?.01 |
12 |
气路系统 |
进气压力[Ba] |
5-12（推?0（/span> |
生长气流量[L/min] |
50 |
||
气体质量 |
C57-0305，等?.8 |
||
13 |
冷却系统 |
进水压力[Ba] |
4-6 |
进水温度[°C] |
12-25 |
||
进水流量[L/min] |
200 |
||
物理清洁度[mm] |
0.38 |
||
14 |
电器 |
电源频率[Hz] |
50?0 |
电压[VAc] |
3X380 |
||
发生器输出功?kW) |
120KW |
||
控制电源(Hz) |
50?0 |
||
电压[VAc] |
3X380 |
||
功率 |
10KW |
||
进电电源整流滤波 |
月/span> |
||
控制系统 |
西门子S7-300 |
||
人机界面控制 |
Pro-face触摸屎/span> |
||
CCD监控系统 |
基恩?/span> |
||
上下传动移动驱动 |
Lenze驱动 |
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