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产品详情
LK3200A电化学工作站
产品简今/div>
仪器简介:

LK3200A型电化学工作站是在LK2000系列优点的基础上将电流范围扩大?A,应用于电化学科研与教学、电池材料研制、电池充放、电催化、电沉积、腐蚀及防护研究、导电聚合物及导电膜研究、环境分析等领域的研究及阻抗测试、/p>

技术参数:

电势控制范围:-10?10V 

恒电流范围:-2A?A 

槽压?35V?35V

电流检测下限:?0pA  

电位增量?.01 mV?0V

脉冲宽度?.0001?0Sec  

方波频率?.001?00KHz   

交流频率??0KHz  

二次谐波交流频率??KHz     

采样间隔?.0001?0000Sec  

平衡时间??0000Sec    

滤波参数?0Hz?000KHz 

电势信号扫描范围?0.0V  

扫描速度?.01mV/S?000V/S

脉冲间隔?.0001?0000Sec

脉冲振幅?.001?.5V     

方波幅度?.001?.5V  

交流幅度?.001?.4V     

电解时间??0000Sec     

电沉积时间:0?0000Sec    

低噪声程控放??4倍  

正弦波频率:0.01mHz?00KHz

电流测量范围?#177;10mA?#177;1nA ?个量程档位)      

电流电位自动或手动滤波,自动或手动IR降补偿,自动电位或手动电流调

主机自带硬件交流阻抗体系,附带交流阻抗软件,及数据处理软件件,可进行测量及数据曲

线的模拟该体系提供多个阻抗测量方法

接口通讯方式:串行通讯

恒电位技术:单电位阶跃计时电流法、双电位阶跃计时电流法、计时电量法、电流—时间曲线、开路电?-时间曲线、控制电位电解库仑法、电位溶出E-T曲线、微分电位溶出分析法

线性扫描技术:循环伏安法及无限次循环伏安、塔菲尔曲线、线性扫描溶出伏安法

脉冲技术:差分脉冲溶出伏安法

方波技术:循环方波伏安法、方波溶出伏安法

交流技术:交流伏安法、选相交流伏安法、二次谐波交流伏安法、交流溶出伏安法

恒电流技术:单电流阶跃计时电位法、双电流阶跃计时电位法、线性电流计时电位法

电化学检测方法:电位分析-工作曲线法、电位分?标准加入法、恒电位安培检测、方波电位安培检测

交流阻抗测量技术:交流-阻抗法、阻?电位法、阻?时间法

电池充放电测诔/p>

主要特点9/strong>

32位Windows中文界面

测试系统软件采用32位Windows风格的软件界面,操作简单直观。实时观察窗口、图形数据一体化窗口的运用,使得测试过程直观高效。软件在运行中,对用户的操作及数据的有效性、完整性进行了充分地检查,适时给出提示或警告

数据实时显示

LK3200A具有数据列表功能,能够实时显示阻抗的测量结果和打开文件的数据,确保你方便地查看实验结果

强大的数据及图形处理

LK3200A交流阻抗测量系统上位机软件可直接处理80000个数据点,并能以十余种图形方式显示测量结果(如阻抗复平面?Nyquist、Bode图、Warburg阻抗图),观察实验结果十分方便、/p>

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