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nanoArch科研?D打印机M160
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美国nanoArch科研?D打印机M160

nanoArch P140是可以实现高精度微尺?D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前*有前景的微纳加工技术之一、/span>

科研?D打印系统

nanoArch M160是科研级3D打印系统,本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统,兼顾高精度和多材料打印,可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3D打印,适用于基础理论验证及原理创新研究,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控,多材料4D打印等方面、/span>

nanoARCH M160系统性能

性能参数

nano Arch M160产品规格

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏树脂

光学精度

50m

XY打印精度

50-200m

打印层厚

20-50m

打印样品尺寸

96mm(L)x54mm(W)x50mm(H)

多材料打?/span>

支持4种不同材料进行层间或层内多材料打?/span>

打印件格弎/span>

STL

系统外形尺寸

1000(L)x700(W)x1600(H)mm3

重量

300kg

电气要求

200-240V,AC?0/60HZ?KW

注:样品高度典型2mm?*10mm

打印材料9/strong>

。硬性树脂(R-160-50系列(/span>

。柔性树脂(S-160-50 系列(/span>

。韧性树脂(T-160-50 系列(/span>

。生物医疗树脂(B-160-50 系列(/span>

系统特性:

。独特的供料系统和涂层技

。具有高精度微尺度多材料的打印能劚/span>

。光学监控系统,自动对焦功能

。优良的光源稳定?/span>

。完善的配套设备及组仵/span>

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