中国粉体网讯2026�?�?1日，由中国粉体网主办的�?026全国高纯石墨产业链发展大会暨高端石墨制品产业交流会”在河南·郑州逸泉国际酒店成功召开！本届大会旨在为高纯石墨产业链相关企业负责人、研发人员、科研院校等提供一个信息交流、展示先进技术成果的平台，促进产、学、研合作，共同推动行业发展、�/p>

会议期间，我们邀请到了业内专家、学者，优秀企业家代表做客对话栏目，进行访谈交流。本期为您分享的是中南大学黄启忠教授的专访、�/p>

中国粉体网：当前行业内主流的石墨提纯技术有哪些，其核心优势和不足体现在哪里＞�/strong>

黄教授：目前石墨主流的提纯方式主要分为两种，一种是块状提纯，另一种是粉末提纯。其中，块状提纯主要采用艾奇逊炉进行提纯，这种方式虽然产能大，但存在生产周期长、污染较严重、能耗偏高的问题、�/p>

粉末提纯则可根据石墨特性，逐步发展出第二代、第三代技术。其提纯方式较为丰富，除了平面推舟式提纯，还有粉末直接提纯、高温提纯等；此外，还有化学提纯法，具体包括酸碱法提纯、氢氟酸提纯等，不过化学提纯的污染相对更为严重、�/p>

针对不同产品的不同需求，我们将粉末提纯技术迭代至第二代、第三代后，能耗仅为第一代的三分之一。同时，采用卧式连续式提纯工艺，不仅能对污染进行集中处理，有效降低污染影响，还能大幅降低能耗、提升产能，实现更高效、更环保的提纯效果、�/p>

中国粉体网：您在报告中提到的高温连续石墨提纯技术，其核心工艺是如何实现的？关键技术突破点是什么？

黄教授：要实现高温连续石墨提纯的核心工艺，首先必须具备优质的设备——设备是工艺技术的延伸与载体。我们可以基于通用设备，结合自身对工艺的理解和设计思路，对设备进行定制化制造，通过这种方式，才能为核心工艺的落地提供保障、�/p>

此外，想要实现高纯度、高性能的石墨提纯效果，优质设备是关键前提。我们团队此前已针对相关设备开展了一系列研究，同时我们也深刻认识到，一名优秀的材料工程师，必须与专业的设备工程师紧密配合，只有双方协同发力，才能突破技术瓶颈，真正实现高温连续石墨提纯技术的落地与优化、�/p>

中国粉体网：配套装备的研发也是技术落地的关键，目前高温连续石墨提纯技术对应的核心装备是否已经实现国产化？能否满足行业大规模生产需求？

黄教授：目前高温连续石墨提纯技术对应的核心装备已经实现国产化，也能够满足行业大规模生产的需求。不过，由于这项技术和配套装备属于新兴事物，还存在一定的优化空间，后续我们也会根据行业应用反馈，持续对装备进行改进完善，进一步提升其稳定性和适配性、�/p>

中国粉体网：我国高纯石墨产业的发展还存在哪些瓶颈？未来高纯石墨制备技术的发展趋势是什么？

黄教授：高纯石墨的纯度要求是分不同等级的。比如我今天介绍的，是纯度为99.95%的高纯石墨，这种纯度的石墨用于锂电、石墨烯等领域，目前我们已经完全能够实现，没有任何技术问题。但在更高端的应用领域，比如第三代半导体碳化硅的制备，对纯度的要求就截然不同了。碳化硅由纯硅和纯碳组成，其中纯硅通过气相提纯技术，纯度可以达到9N甚至12N；而我们目前的纯碳提纯采用的是固相提纯方式，也就是在固体状态下进行提纯，纯度最多只能达�?N、�/p>

这里有个关键问题�?N的纯碳和9N的纯硅合成的碳化硅，最终纯度也只能达到6N，这种纯度只能归为低端产品，无法满足高端半导体的需求，这也是我们在半导体领域与高端标准存在差距的核心原因。所以，我们必须探索新的提纯方法和思路，不能局限于现有的固相提纯模式。比如，我们可以从气体入手，先对甲烷、丙烯等气体进行提纯，再通过这些高纯度气体合成高纯度碳，争取将纯碳纯度提升到9N甚至12N。这样一来，�?N的纯碳和9N的纯硅合成的碳化硅，纯度就能达到9N，比目前6N的碳化硅纯度高出三个数量级、�/p>

这种新方法无论是对我国未来的半导体产业，还是对全球半导体行业的发展，都将起到极大的推动作用。因此，我们一定要打破固有思维，不断提出新想法、探索新思路，才能实现技术突破，满足高端领域的需求、�/p>

中国粉体网：您认为，我国高纯石墨产业链想要实现完全自主可控，还需要在哪些方面发力＞�/strong>

黄教授：首先，核心生产设备必须跟上发展需求。其次，我们既要明确发展思路，更要掌握切实可行的技术方法。具体来说，一方面要攻克设备相关的技术方法，比如我们要实�?N�?2N纯度的石墨产品，与之配套的保温材料等原辅材料，也必须达到相应的纯度标准。如果这些配套原辅材料的纯度不达标，将会直接影响高纯石墨产品的质量，进而制约整个产业链的自主可控进程、�/p>

（中国粉体网编辑整理/初末（�/p>

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