Thermo Scientific�?nbsp;Apreo ChemiSEM�?nbsp;场发射电 镜是高性能与高质量成像的不二之选。它集成� 元素成分与结构分析于一体的自动工作流程，让不同经验的用户都能轻松获得高质量数据、�/span>

Apreo ChemiSEM为大型研究机构和工业客户提供适用于各种样�?nbsp;与不同经验水平用户的完全集成的分析技术与完整的分析结果�?nbsp;对于有多个使用用户和多种样品类型的多功能实验室来说，该系统的全新智能帧积�?nbsp;(SFI)、自动对焦和自动消像散功能可自动优化图像采集参数并采集数据，无需手动调节。该系统始终保持ZUI优状态，可随时进行成像，让用户有更多时间专注于获取所需的数据、�/span>

采用 ChemiPhase 对钢材中的复合夹杂物进行相分析。ChemiPhase 可有效鉴定各种夹杂物，获取各种夹杂物的成分和面积分数，还能轻松探测出意想不到的相，通过一次分析即可提取完整的信息、�/span>

主要特点

高分辨率成像性能：Thermo Scientific� Trinity� 探测检测系统及自动� 技术可简化各种应用中的数据采集工佛�/span>

先进的优化分析解决方桇�/strong>：TrueSightPro EDS探检测器、ChemiSEM技术和 TruePix EBSD 探检测器可对样品进行完整全面表征

综合工作流程：兼容MAPS 软件、自定义脚本�?nbsp;CleanConnect™， �?nbsp;容性让用户可您能够全面完全控制分析流程

Apreo ChemiSEM 系统集成了三项有助于简化操作并确保结果可靠性的先进功能：Thermo Scientic � ChemiSEM � 技术、新型TruePix 背散射电子衍射仪 (EBSD) 以及独特� Thermo Scientic ™Trinity � 镜筒内探测系统、�/span>

ChemiSEM 技术利用全自动实时定量算法呈现仅通过成像无法� 意到的特征，为样品提供更完整的信息。该功能随时运行且易�?nbsp;使用，可更快提供结果，有助于消除用户偏差、�/span>

TruePix EBSD 探测器与 Apreo ChemiSEM 系统配合使用，可扩大 应用范围。全新的 EBSD 软件可用于控制该探测器，引导用户�?nbsp;成参数设置、数据采集以及数据处理、�/span>

Trinity 镜筒内探测系统可实现高质量的形貌、极表面和成分信�?nbsp;的同步采集，而无需使用 ETD � BSD 探测器、�/span>

其具有独特的信号过滤选项�? kV 电压下不加电子束减速即可得�?nbsp;0.9 nm 的ZUI高分辨率、�/span>

Apreo ChemiSEM 系统将高分辨率成像、元素分析和结构分析�?nbsp;结合，为用户提供分析各类型材料的强大工具、�/span>

电子光学

� 高分辨率场发� SEM 镜筒具有以下特点９�/span>

� 高稳定肖特基场发射枪，提供稳定的高分辨分析束�?/span>

� 复合末级透镜，组合静电透镜、无漏磁透镜和浸没式磁透镜（选配（�/span>

� 60° 物镜几何结构，允许较大样品倾斜

� 自加热光阑确保清洁度，无接触式光阑切捡�/span>

� SmartAlign 技术：无需用户对中

� 低真空模式（选配）下通过透镜差分抽真空减小裙散效应， 实现准确分析和ZUI高分辨率成像

�?nbsp; 电子束减速功能，样品台偏压范围为 -4,000 V � +600 V

� 束流连续变化，孔径角ZUI优化

� 双样品台扫描偏转

� 电子枪安装和维护简单：自动烘烤、自动启动、无需机械对准

� PivotBeam 模式，用于选区电子通道衬度成像，也称为“摇 摆电子束”模式（仅限� Apreo ChemiSEM S 型）

�?nbsp; ZUI短灯丝寿命：36 个月

ChemiSEM 技�?/span>

� TrueSight；探测器尺寸�?5 �?nbsp;70 mm²

� 能量分辨率高�?nbsp;125 eV @ Mn Κα�?/span>

� 元素探测范围�?nbsp;Be-Am

� 轻元素灵敏度可探测至�?nbsp;(Si Lα)

SEM-EDS 功能完全集成于单一用户界面�?/span>

� 基于项目的数据存�?/span>

� 项目数据树，方便轻松管理数据

� 行业标准数据格式

� 专用分析模式，实现点、线和面扫描模式之间的无缝融吇�/span>

� � xT SEM 用户界面中选择可用的电子图像类垊�/span>

� 一键生成报呉�/span>

� 和峰和逃逸峰去除

� 自动谱峰识别

� 合成峰与背底叠加

� 在大范围工作距离、束流和电子束能量范围内进行准确定量

� 用户可定义选择包含、排除或定量缺失某元紟�/span>

� 自动或用户自定义选择 KLM 线系进行定量分析

� 通过数字滤波法去除背应�/span>

� 通过ZUI小二乘滤波法拟合进行无标样定量分枏�/span>

� 使用 PROZA 基体校正法，实现优异的轻元素定量

� 定性和定量线扫描，可按时长或计数停止测诔�/span>

� ChemiSEM 技术，结合电子图像算法实现快速面定量

� 定量面扫描始终开启，提供谱峰剥离的定量面扫描

� 计数面扫描，支持单元素线系选择

��?nbsp;square kernelization 进行定量面扫描（选配（�/span>

� 将多个面扫描图像叠加到电子图像上

� 用户自定义或自动选择元素颜色

� 通过导航蒙太奇采集和拼接多个视场

� 兼容 MAPS 软件，实现多视场的自动拼�?/span>

� 使用点和矩形框进行谱图提叕�/span>

� 通过灵活选择线方向、宽度和点数，从 X 射线面扫描图像中� 取线扫描数据

� 多谱图归一化对毓�/span>

� 基于 DCFI 进行面扫描的漂移校正

� 采用化学计量法对硼化物、碳化物、氧化物和氮化物进行化合 物分枏�/span>

� ChemiPhase 通过多元统计分析法进行实时或离线相鉴宙�/span>

� ChemiView 实现不同数据类型的离线再处理和报告生戏�/span>

TruePix EBSD 探测�?/span>

� 混合像素化直接电�?nbsp;EBSD 探测�?/span>

� 单一探测器，由单个基�?nbsp;Timepix 的模块组戏�/span>

� 零读取噪声、高信号背底毓�/span>

� 零畸受�/span>

� 单颗粒计�?/span>

� 能量阈值化

� 2000 FPS 帧读取率

� 一分钟内完成探测器插入、校准、花样优化和面扫描自动设�?/span>

EBSD 采集和数据处理软仵�/span>

� 全面集成在线采集和离线数据处理系绞�/span>

� 自动花样优化：系统从待采集区域随机点采集 >20 个EBSP，实现优质的背底校准

� ZUI大曝光量测定：系统确定信号饱和前的ZUI大曝光量，当曝光时间超过ZUI大曝光量进行自动帧积刅�/span>

� 自动平场校正和衬度增强（另外提供校准程序（�/span>

� 针对不同探测器位置、工作距离和样品倾斜角度自动进行�?nbsp;样中心校凅�/span>

� 可叠加任意类型的图像

� 晶粒尺寸直方国�/span>

� 噪声去除和像素增弹�/span>

� 用户自定义模板化报告

� 标定所有的七类晶系�?nbsp;11 种劳厄群

� 多相同时标定

� 快速傅里叶变换和花样衬度质量指栆�/span>

� � SEM 放大倍率花样中心校正

� EBSP 的ZUI佳拟合运动学模拟与叠功�/span>

� 欧拉图、X/Y/Z 反极图（轧向、法向、横向）、欧拉取向图�?nbsp;相图和取向差面扫揎�/span>

真空系统

� 完全无油的真空系绞�/span>

� 1 × 240 l/s 涡轮分子泴�/span>

� 1 × PVP 涡旋泴�/span>

�2 × IGP

� 样品仓真空度（高真空�?lt;6.3×10-6 mbar（泵工作 12 小时后）

� 抽真空时间：�?nbsp;3.5 分钟

� 低真空模式（腔室压力� 10-500 Pa）（选配（�/span>

� 限压光阑 (PLA) 自动加载装置

样品�?/span>

� 标准多功能样品座，可直接安装在样品台上，可容纳多�?8 个标准样品托（直径为 12 mm）、三个预倾斜样品托�?nbsp;截面样品托和两个预倾斜 STEM 样载条（选配）（38 ° �?nbsp;90°）；安装样品无需使用工具

� 每个选配 STEM 载条可容纳六� STEM 载网

� 晶圆及定制样品台（选配（�/span>

Apreo ChemiSEM 支持多种工业应用，包括对大和重的材料进行表征的应用。无需切割样品或减小样品的尺寸，简化了制备过程、�/span>

系统控制

� 64 � GUI，配� Windows 10 系统、键盘、光学鼠栆�/span>

� 24 英寸液晶显示屏，WUXGA 1920 × 1200（可选装第二台显示器（�/span>

� 可自定义用户界面

� 自动聚焦、自动消像散和自动透镜对中功能

� 智能帧积分（自动设置采集参数（�/span>

� 图像配准

� 导航蒙太奆�/span>

� 撤消与恢复功胼�/span>

� 操纵杆（选配（�/span>

� 旋钮板手动用户界面（选配（�/span>

图像处理�?/span>

� 驻留时间范围� 25 ns - 25 ms/ 像素

� 高达 6144 × 4096 像素

� 文件类型：TIFF�? 位�?6 位�?4 位）、JPEG � BMP

� 单帧�?nbsp;4 视图图像显示

� SmartScan （智能扫描）模式�?56 帧平均或积分、线积分 和平均、隔行扫描）

� DCFI（漂移补偿帧积分）模弎�/span>

� 数字图像增强和降噪滤波器

安装要求

（详细数据请参阅预安装指南）

� 电源９�/span>

� 电压� 100 - 240 V AC (-6%�?10%)

� 频率�?nbsp;50/60 Hz (±1%)

�?nbsp;功耗： <3.0 kVA（电镜基础系统（�/span>

� 接地电阻 <0.1 0

� 环境９�/span>

� 温度�?nbsp;20 ° C (±3 ° C)

� 相对湿度低于 80%

� 杂散 AC 磁场：线时间 20 ms�?0 Hz 电源）或 17 ms�?0 Hz 电源）时�?lt;40 nT（异步）� <100 nT（同步）

� ZUI小门尺寸�?.9 m � × 1.9 m 髗�/span>

� 重量�?80 kg（系统控制台（�/span>

� 建议使用干燥氮气进行抽真穹�/span>

� 压缩空气�?-6 bar，清洁、干燥且无油

� 系统冷却装置

� 噪声：需现场勘察

� 地面震动：需现场勘察

� 可选主动减震装�?/span>

产品参数

电子束分辨率

BD：电子束减速模式，WD：工作距离（除非另有说明，否则按ZUI佳工作距离提供分辨率）。默认情况下，ZUI终安装后系统验收测试条件为：高真� 1 kV � 30 kV 条件 ，开 启浸没模式（如适用）、�/span>

电子束参数范図�/span>

电子束参数范围：1 pA � 50 nA（可选配 400 nA （�/span>

� 加速电压范围：200 V - 30 kV

� 着陆能量范围：20 eV - 30 keV

� ZUI大水平视场宽度：10 mm WD 时为 3 mm（ZUI小放大倍率� 29x （�/span>

样品仒�/span>

� 内宽�?40 mm

� 分析工作距离�?0 mm

� 端口�?2

通过电子束减� (BD) 对氧化镁颗粒进行� kV 表征 (500 V)。BD 可改进形貌细节并 减少荷电效应、�/span>

探测�?/span>

Apreo ChemiSEM 可任意组合不同探测器或探测器的分区（选配）， 可同时探测多达四种信号：

� Trinity 探测系统（物镜内和镜筒内（�/span>

� T1 分割式物镜内低位探测�?/span>

� T2 物镜内中位探测器

� T3 镜筒内高位检测器（选配（�/span>

�TD：Everhart-Thornley 二次电子探测�?/span>

� DBS：可伸缩分区式极靴下 背散射电子探测器（选配（�/span>

� 低真空二次电子探测器（选配（�/span>

� DBS-GAD：安装在物镜上的气氛分析背散射电子探测器（选配（�/span>

� STEM 3+ 可伸缩分区式探测� (BF、DF、HADF、HAADF）（选配（�/span>

�红外 CCD

�hermo Scientifc� Nav-Cam� 导航相机（样品仓内）