一、简今�/span>

Lumina AT1光学表面缺陷分析仪可寸�/span>玻璃�?/span>半导体及光电子材料进行表面检测、�/span>Lumina AT1既能够检浊�/span>SiC�?/span>GaN、蓝宝石和玻璃等透明材料，又能对Si、砷化镓、磷化铟等不透明基板进行检测，其价格优势使兵�/span>成为适合于研叐�/span>/小批量生产过稊�/span>中品质管理及良率改善的有力工具、�/span>

Lumina AT1结合散射测量、椭圆偏光、反射测量与表面斜率等基本原理，以非破环性方式对Wafer表面的残留异物，表面与表面下缺陷，形状变化和薄膜厚度的均匀性进行检测、�/span>

1.偏振通道用于薄膜、划痕和应力点；

2.坡度通道用于凹坑、凸起；

3.反射通道用于粗糙表面的颗粒；

4.暗场通道用于微粒和划痕；

二�?/span>功能

l主要功能

1.缺陷检测与分类

2.缺陷分析

3.薄膜均一�?/span>测量

4.表面粗糙度测野�/span>

5.薄膜应力检浊�/span>

l技术特炸�/span>

1.透明、半透明和不透明的材料均可测量，比如硅、化合物半导体或金属基底：�/span>

2.实现亚纳米的薄膜涂层、纳米颗粒、划痕、凹坑、凸起、应力点和其他缺陷的全表面扫描和成像：�/span>

3.150mm晶圆全表面扫描的扫描时间丹�/span>3分钟＋�/span>50x50mm样品30秒内可完成扫描并显示结果：�/span>

4.高抗震性能，系统不旋转，形状无关，可容纳非圆形和易碎的基底材料：�/span>

5.高达300x300mm的扫描区域；可定位缺陷，以便进一步分析；技术能劚�/span>

三、应用案侊�/span>

1.透明/非透明材质表面缺陷检浊�/span>

2. MOCVD外延生长成膜缺陷管控

3. PR膜厚均一性评件�/span>

4. Clean制程清洗效果评价

5. Wafer�?/span>CMP后表面缺陷分枏�/span>

6.多个应用领域，如AR/VR�?/span>Glass、光掩模版、蓝宝石�?/span>Siwafer筈�/span>