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PHL膜厚测试?椭偏仪SE-101
PHL膜厚测试?椭偏仪SE-101的图?/></a></div></div></div>         <div class=
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日本
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膜厚测试?/span>

椭偏?/span>

应力双折射仪+span>能够快速、精准测量双折射相位差及其空间分布和方向。广泛应用于玻璃、晶体、聚合物薄膜、镜片、晶片等质量分析和控制领域

日本Photonic-lattice成立?996年,以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心,成立的合资公司,尤其是其光子晶体制造技?*世界,并由此开发出的测量仪器、/span>

根据应用不同,我们特别开发出5款不同的的膜厚测试仪/椭偏仪,每一款产品各具不同的特点、/span>

PHL紧凑型桌面式椭偏 SE-101

型号

SE-101

重复?/span>

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

0.05?测量炸/span>

光源

636nm 半导体激光器

测量炸/span>

1mm

入射觑/span>

70?/span>

测量尺寸

4英寸+/span>

仪器尺寸和重野/span>

250x175x218.3mm/4kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V?0/60Hz(/span>

软件

SE-View

凑型桌面式椭偏仪 SE-102

型号

SE-102

重复?/span>

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

0.05?测量炸/span>

光源

636nm 半导体激光器

测量炸/span>

1mm

入射觑/span>

70?/span>

测量尺寸

4英寸?轴自动,2轴手?/span>

仪器尺寸和重野/span>

300x235x218.3mm/4kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V?0/60Hz(/span>

软件

SE-View

快速映射椭偏仪 ME-110

型号

ME-110

重复?/span>

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分?000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量炸/span>

0.5mm

入射觑/span>

70?/span>

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重野/span>

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V?0/60Hz(/span>

软件

SE-View

型号

ME-110

重复?/span>

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分?000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量炸/span>

0.0055-0.5mm

入射觑/span>

70?/span>

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重野/span>

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V?0/60Hz(/span>

软件

SE-View

允许厚度分布的测量,例如,透明电极膜和取向膜与基底玻璃的透明基板

型号

ME-110-T

重复?/span>

厚度0.1nm,折射率0.001

测量速度

每分?000个点以上

光源

636nm 半导体激光器

测量炸/span>

0.5mm

入射觑/span>

70?/span>

测量尺寸

6英寸

仪器尺寸和重野/span>

650x650x1740mm/120kg

数据接口

千兆以太网(摄像机信号),RS-232C

功率

AC100-240V?0/60Hz(/span>

软件

SE-View

高速,高解析度的表面分布测野/span>

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