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复纳科学仪器(上海)有限公司

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武汉见!复纳科技邀您共 2025 年全国电子显微学学术年会

武汉见!复纳科技邀您共 2025 年全国电子显微学学术年会

2025电镜年会

2025 年全国电子显微学学术年会 9 26 - 30 日(26 日报到,30 日离会)在武汉市国际会议中心召开。在砥砺前行卌五秋,探微求真为国谋之际,我们迎来了中国电子显微镜学会(对外)成立 45 周年庆典,本届年会为庆贺专场,显微学人以自己的学识与奉献解析微观世界之谜,为科技强国而勇于担当,不断进取、/p>

本届年会的主题是:显微逐梦卌五载,踔厉奋发报神州 本届年会按材料科学与生命科学学科设立十五个专题分会场9/p>

  1. 显微学理论、仪器方法与技术;

  2. 原位电子显微学表征;

  3. 功能材料的微结构表征:/p>

  4. 结构材料及缺陷、界面、表面,相变与扩散;

  5. 先进显微分析技术在工业材料中的应用:/p>

  6. 扫描探针显微学表征(STM/AFM 等):/p>

  7. 电子衍射及电子全息( SEM、EBSD TEM);

  8. 聚焦离子束(FIB)在材料科学中的应用:/p>

  9. 低温电子显微学表征;

  10. 生物医学电镜技术发展与应用?nbsp;

  11. 显微学在农林及生物科学领域中的应用(超分辨显微镜,激光共聚焦显微镜等);

  12. 农林电子显微学研究与应用?nbsp;

  13. 先进材料显微表征与前沿创新;

  14. 显微科学仪器与先进材料;

  15. 显微学平台智能化升级与开放共享、/p>

✦✦?/p>

复纳科学仪器(上海)有限公司(以下简称“复纳科技”)受邀参加此次会议,并且在新品发布之际,将携飞纳大仓室自动化扫描电 Phenom XL 现场展出,欢迎各位莅?nbsp;5 楻strong style="margin: 0px; padding: 0px;">?-17【/strong>复纳科技展台测试体验和交流,共同探讨最新材料表征和制备技术!

•会议时闳/strong>

2025 9 26 - 29 日(26日报到)

•会议地炸/strong>

武汉国际会展中心

复纳科技展位叶/strong>5-17

复纳科技展位? src=

现场互动

卡皮巴拉,“蒜鸟”等你来拿哦}/strong>


9 26 - 29 日会议期闳/p>

关注复纳科技 / 飞纳电镜公众叶/p>

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关于复纳科技

复纳科技成立 2012 年,专注引进欧美先进、稳定的科学分析仪器与制造设备,助力中国科研创新与工业升级。公司已服务 2,500+ 家中国用户,并与 10 家国际知名制造商建立了长期稳定的合作关系,共同为中国用户提供高品质产品与专业服务。主要业务线如下9/p>

  • 复纳显微成像9/strong>荷兰 Phenom 台式扫描电镜、比利时 NEOSCAN 高分辨台式显 CT、匈牙利 Technoorg Linda 离子研磨?/p>

  • 透射电镜原位分析:荷 DENSsolutions 原位透射样品杆、匈牙利 Technoorg Linda TEM 氩离子精修仪

  • 复纳清洁度检测:荷兰 Phenom ParticleX 清洁度检测系统(锂电、汽车、光学模组、钢铁夹杂物);荷兰 Fastmicro 可视化颗粒检测系绞/p>

  • 复纳纳米制造:美国 Forge Nano 粉末原子层沉积系统、荷 VSParticle 纳米气溶胶沉积系绞/p>

  • 复纳半导体:LabSEMI 半导体软箠/p>

  • 复纳生命科学9/strong>匈牙 Femtonics 双光子显微镜

PART.01 Phenom 飞纳台式扫描电镜

飞纳作为全球领先的桌面扫描电子显微镜,操作简单,成像速度快且质量高,受到了众多研究者的青睐、/p>

1.新品发布——Phenom XL G3 大仓室自动化扫描电镜

最新发布的大仓室自动化扫描电镜 Phenom XL G3,凭借其 3000 小时的长寿命 CeB 晶体灯丝、AI 智能自动化功能,开启了扫描电镜的新纪元!无论是质量控制、研发测试,还是精准分析,Phenom XL G3 都将为您的工作带来前所未有的提升、/p>

大仓室自动化扫描电镜

  • 稳定可靠:80 年顶尖技术传承、/p>

  • 独家采用 CeB6晶体灯丝:3000 h 超长使用寿命,平 5 年换灯丝、/p>

  • 面向工业 4.0 的自动化 AI 智能扫描电镜9/strong>开放编程接口,打造定制化的“黑灯实验室”检测流程,支持 Maps 地图式多模态、多维度自动拼图及关联、/p>

  • 不挑安装环境9/strong>内置专利减震系统,可直接放置于生产车间、高楼层 QC 实验室等、/p>

  • 原厂集成能谱 EDS9/strong>从电子光学设置、图像采集到能谱分析和面分布,都在同一个统一、直观的界面中完成、/p>

  • 卓越的低电压成像功能9/strong>对于不导电、导电性差、以及电子束敏感样品,不喷金,仍具有卓越的成像能力、/p>

2.分辨率最高——Phenom 台式场发射扫描电镛/strong>

飞纳台式场发射扫描电镜,完全防震,在台式机身上获得接近大型场发射的性能。优秀的低电压成像能力,可减轻电子束对样品的损伤和穿透,最大程度还原样品的真实形貌。延续电镜能谱一体化设计,升级的快速面扫可以即时显示所选元素的分布情况,实时能谱分析功能大幅提升了检测效率、/p>

型号推荐

Pharos STEM 扫描透射电镜

  • 分辨率:优于 1nm

  • 成像模式:BF、DF、HAADF

Pharos G2 台式场发射扫描电镛/strong>

  • 分辨率:优于 1.5 nm

  • 放大倍数?,000,000 X

3.AFM-SEM 原子力扫描电镛/strong>

AFM-in-SEM 技术的出现将原子力显微镜(AFM)与扫描电子显微镜(SEM)相结合,实现了多模态相关分析。它不仅能够精确地将探针导航至感兴趣的区域(ROI),还能对电学性质进行可靠的表征、/p>

型号推荐(点击图片即可查看详细信息)

原子力扫描电镜一体机

Phenom AFM-SEM

原子力扫描电镜一体机。结合了飞纳台式扫描电镜和原子力显微镜的优势,实现了在同一系统中对样品进行多模态关联分析、/p>

LiteScope AFM-SEM

同步联用技术通用款兼容赛默飞世尔、TESCAN、蔡司、日立、JEOL 等主流品 SEM 系统,其他品牌电镜亦可定制、/p>

PART.02 Technoorg Linda 样品制备

Technoorg Linda 系列离子研磨仪、离子减薄仪和离子精修仪,是 SEM / TEM / XTEM / FIB 样品制备的有力工具。该系列产品采用离子束技术,可对样品进行快速研磨、表面精细加工以及最终抛光等。离子研磨系统是一种高精度的表面处理技术,主要用于材料科学和半导体行业。目前绝大多数离子研磨系统都是采用传统的触控屏或机械键盘的方式进行操作。而最新的 Technoorg Linda 产品 SEMPREP SMART 创新地采用了智能 AI 操作模式,是一台可以对话的离子研磨系统?/p>

制样

PART.03DENSsolutions TEM 原位样品杅strong style="margin: 0px; padding: 0px;">

DENSsolutions 产品可以为原 TEM 样品施加外界刺激,捕 TEM 样品在真实环境下的动态现象。目前提供的四种原位实验方案:Wildfire TEM 原位加热方案、Lightning TEM 原位热电方案、Arctic TEM 原位低温冷冻热电方案、Climate Infinity TEM 原位气相加热加电方案 Stream Infinity TEM 原位液相加热加电方案,为各学科领域在相关条件下研究各种材料和工艺开辟了前所未有的可能性、/p>

PART.04 分辨率最高的台式显微 CT

NEOSCAN 台式显微 CT 扫描系统对场地要求少、免维护、具备高空间分辨率。能够真实再现材料内部结构,在材料研究、失效分析、工艺优化中已经成为不可替代的测试手段、/p>

台式显微ct

PART.05 Femtonics双光子显微镜

“费米光学”双光子显微成像产品来自于匈牙利布达佩斯,致力于为全球顶尖研究人员提供最先进的双光子成像系统。Atlas 声光三维双光子显微镜采用独创的声光技术,拥有远高于市面产品的扫描速度?D 随机访问点扫描速度高达100 kHz,高速任意帧扫描速度?nbsp;40 fps@510×510 px,在目标聚焦视场时高?nbsp;3000 fps。其已创?nbsp;20 多项世界纪录,并拥有44 项国际专?/strong>+strong style="margin: 0px; padding: 0px;">技术成果出版物 200 仼/strong>,大部分成果发表于《Nature》《Science》《Cell》《Neuron》等顶级期刊、/p>

双光子显微镜

PART.06 Forge Nano 粉末原子层沉?/strong>

Forge Nano 采用原子层沉积技术(ALD),可提供从包覆研发到工业生产的全套解决方案,包括:流化床技术、旋转床、振动床等。实现从毫克到吨级的粉末处理量,您可以轻松实现从实验室到生产的产品开发计划。ALD 可应用于多种电极、电解质粉末材料,具有延长电池周期寿命、减少气体生成、减少锂不可逆损耗和高电压工作稳定性等优势、/p>

粉末原子层沉? src=

PART.07 VSParticle 纳米沉积系统

VSP-P1 纳米印刷沉积系统能够实现具有独特性能的无机纳米结构材料的打印直写。印刷涂层的颗粒 VSP-G1 纳米粒子发生器产生,经火花烧蚀产生的气溶胶颗粒其典型粒径在 20nm 以下,且不含表面活性剂或任何其他有机添加物质。纳米粒子生产和印刷沉积的整个过程是完全自动化的,不需要进行后续有机成分的热处理去除、/p>

气溶胶纳米沉? src=



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