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Porometer的MP²技术已正式获得专利

Porometer的MP²技术已正式获得专利

Porometer皃/span>MP²技术(多级压力步进平衡泔/span>(/span>——现己/span>正式获得专利——将精密孔隙测量提升至全新高度、/span>


该技术专丹/span>POROLUX Revo系列设计,MP²技术引入智能压力控制功能,确保每个数据点都在时机和精确压力下采集——从而实现当今最精准、可重复性最高的孔径测量、/span>

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获专利的MP²技?/span>

MP²代表多级压力步进平衡泔/span>。这项创新技术能确保测量过程中压力平稳提升,并加速达到流量与压力稳定状态、/span>

为何为MP²技术申请专?/span>

我们为MP²技术申请专利,既是为了保护这项真正推动孔隙测量科学发展的突破性成果,也是为了庆祝这一创举、/span>


通过重新定义压力控制,MP²技术确保了无懈可击的阶梯稳定性,并在整个过程运行中持续保持高速、/span>


这不仅是技术升级——更是数据精度与仪器可靠性的里程碑、/span>


Aptco Technologies总经理Kees van der Kamp强调此项新专利的重要性:


“我们的MP²技术获得官方专利认证,是对团队自主研发所达成的深层科学理解与工程精度的肯定。这彰显了Porometer对待创新的严谨态度——我们仪器的每个细节都植根于专业知识、丰富经验以及对精准性的不懈追求。“/span>


MP²技术的功能

MP²技术通过智能方式全程管理测量过程中的压力建立与稳定阶段:
在各选定测量点前精准缓释压力
保持每个压力阶跃的持续稳定与高度一致?/span>
仅在气流与压力达到完全稳态时采集有效数据炸/span>

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注:图示为采用POROLUX Revo测量的聚合物平板膜湿曲线、干曲线及半干曲 b)拟合孔径分布图


这项技术确保测试结果具有一致性、可靠性,为材料研究构建坚实的认知基础、/span>

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为您带来的价倻/span>
内置MP²技术的POROLUX Revo系列使用户享有:
更高测量精度与结果复现?/span>
1mbar级精准控制的压力递增区间
更平滑的湿曲线与更精细的孔径分布图,同时实现最小化压力波动
针对无纺布、纺织品及径迹蚀刻膜等材料实现更快更稳定的测量周朞/span>


结论
获得专利的MP²技术奠定了Porometer在孔隙测量领域创新领导者的地位、/span>


通过将智能过程控制与数十年专业经验相结合,Porometer持续将精准性与可靠性提升至全新高度、/span>


注:以上内容编译自Porometer官网,图片等内容版权归属于Porometer







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