公司介绍
泽攸科技成立?016年，拥有安徽、北京、上海和东莞四家分公司，是一家具有完全自主知识产权的精密仪器高科技公司。公司专注于扫描电镜、原位测量系统、台阶仪、探针台、电子束光刻机等精密设备的研究，填补了国家在科学精密仪器领域的诸多空白。人才是企业的核心竞争力和发展的驱动力。泽攸科技?0世纪90年代便开启电子显微镜及相关原位附件的研发，已逐步打造成为科学精密仪器领域人才聚集地。现有员?00多人，其中院士、专家团?0余人，拥有精通机械、光学、超高真空、电子技术、微纳加工技术、软件开发技术的专业团队。为解决行业内“卡脖子”难题，企业全力培养人才，重视产学研用合作，并与十几家高校及科研院所建立了长朞/p>
主推产品
场发射扫描电镜产品介绍：ZEMUltra台式扫描电镜采用肖特基场发射电子源，三级独立真空设计，优?.5nm的分辨率满足多数样品微纳结构表征需求。标配大束流及大样品仓，支持原位功能样品台及EDS/EBSD拓展、/p>
泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）采用场发射电子枪，配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台，允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域发挥重要作用。产品特色▲激光干涉样品台：先进的激光干涉样品台，满足大行程高精度拼接和套刻需求▲场发射电子枪：高分辨场发射电子枪是光刻质量的重要保证▲图形发生器：在保证超高速扫描的同时实现超高分辨率图案绘制样品台指标▲标配：激光干涉样品台▲样品台行程：≥105mm▲拼接精度：优于50nm（平均?1σ）▲套刻精度：优?0nm（平均?1σ）电
国产台式场发射扫描电子显微镜
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无掩膜光刻机
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电子束光刻机
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近日，澳大利亚昆士兰理工大学作为第一单位，在《NanoLetters》上发表了题为《Mechanical, Electrical, and Crystallographic Property Dynamics of Bent and Strained Ge/Si Core−Shell Nanowires As Revealed by in situ Transmission Electron Mi
5?8日，北京交通大学王熙教授（通讯作者）团队的杨一君博士（第一作者）以及天津理工大学刘喜正（共同一作）副教授、中科院化学研究所姚建年院士、国际电镜大牛Yoshio Bando、Dmitri Golberg等人在国际顶级期刊上发表了“The Role of Geometric Sites in 2D Materials for Energy Storage”的综述。文章详细探讨了二维纳米材料中的
安徽泽攸科技有限公司的PicoFemto系列原位透射电镜测量系统一经推出便凭借其强大的功能、极致的参数指标和超高的稳定性获得国内外用户认可，并协助用户在各类顶尖学术期刊上发表大量研究成果。近日，泽攸科技的PicoFemto系列原位测量系统完成SAA等认证体系，并在澳大利亚昆士兰理工大学（QUT）安装验收成功。此次验收的产品包括单倾电学测量系统、光电测量系统和力电测量系统。今年，泽攸科技也在积极申请
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