粉体行业在线展览
QZ-9999
1万元以下
江è‹ç§‹æ£æ–°æ
QZ-9999
480
1-3mm
1.é«˜ç«¯é•€è†œææ–™åº”ç”¨ï¼šé«˜çº¯äºŒæ°§åŒ–ç¡…é¶æä¸Žè’¸é•€/æº…å°„ææ–™
é«˜çº¯çŸ³è‹±ç ‚æ˜¯åˆ¶å¤‡é•€è†œç”¨é«˜çº¯äºŒæ°§åŒ–ç¡…ï¼‡ü/span>SiO₂)粉体ã€é¢—ç²’åŠæº…å°„é¶æçš„æºå¤´ææ–™ã€‚é€šè¿‡ç²¾ç»†åŠ å·¥å’Œæˆåž‹å·¥è‰ºï¼Œæˆ‘ä»¬çš„é«˜çº¯çŸ³è‹±ç ‚å¯è½¬åŒ–ä¸ºç”¨äºŽç‰©ç†æ°”相沉积'ü/span>PVDï¼‰å’ŒåŒ–å¦æ°”相沉积'ü/span>CVDï¼‰çš„é•€è†œææ–™ï¼Œåœ¨çŽ°ä»£å·¥ä¸šçš„è¡¨é¢å·¥ç¨‹ä¸ŽåŠŸèƒ½åŒ–ä¸æ‰®æ¼”æ ¸å¿ƒè§’è‰²ã€ü/span>
åŠå¯¼ä½“与集æˆç”µè·¯ï¼™ü/span>
介质层与é’åŒ–å±‚ï¼šåœ¨èŠ¯ç‰‡åˆ¶é€ ä¸ï¼Œé€šè¿‡CVD或溅射工艺沉积高çº?/span>SiOâ‚‚è–„è†œï¼Œä½œä¸ºæ …æžä»‹è´¨ã€å±‚é—´ç»ç¼˜å±‚'ü/span>ILD)以å?终的é’åŒ–ä¿æŠ¤å±‚ï¼Œè¦æ±‚æžé«˜çš„纯度(通常â‰?/span>5N)和优异的薄膜å‡åŒ€æ€§ï¼Œä»¥ä¿éšœå™¨ä»¶ç”µå¦æ€§èƒ½ä¸Žå¯é 性ã€ü/span>
光刻与平å¦åŒ–ï¼šç”¨ä½œè¾…åŠ©å±‚ææ–™ã€ü/span>
精密光å¦ä¸Žå…‰ç”µæ˜¾ç¤ºï¼š
å…‰å¦é•€è†œï¼šä½œä¸ºè’¸é•€ææ–™ï¼Œç”¨äºŽé€é•œã€æ»¤å…‰ç‰‡ã€æ¿€å…‰é•œç‰å…‰å¦å…ƒä»¶è¡¨é¢åˆ¶å¤‡å¢žé€è†œï¼ˆå‡å射膜)ã€é«˜å膜ã€åˆ†å…‰è†œã€‚高纯度确ä¿äº†è–„膜æžä½Žçš„光叿”¶å’Œæ•£å°„æŸè€—ã€ü/span>
æ˜¾ç¤ºé¢æ¿ï¼šç”¨äºü/span>LCD/OLED显示器的ç»ç¼˜å±‚ã€ä¿æŠ¤è†œï¼Œä»¥åŠé€æ˜Žå¯¼ç”µæ°§åŒ–物(å¦ü/span>ITO)薄膜的基底阻挡层,需è¦ä¼˜å¼‚的致密性和平整度ã€ü/span>
光伿–°èƒ½æºï¼š
å‡å射与é’åŒ–æ¶‚å±‚ï¼šåœ¨é«˜æ•ˆæ™¶ç¡…å¤ªé˜³èƒ½ç”µæ± ï¼ˆå°¤å…¶æ˜?/span>PERCã€?/span>TOPCon技术)表é¢ï¼Œé€šè¿‡PECVD沉积SiOâ‚‚è†œå±‚ï¼Œå¯æœ‰æ•ˆé™ä½Žè¡¨é¢å射率ã€åŒæ—¶å®žçŽ°è‰¯å¥½çš„è¡¨é¢é’化,æå‡ç”µæ± è½¬æ¢æ•ˆçއã€ü/span>
消费电å与防护领域:
表é¢åŠŸèƒ½åŒ–ï¼šç”¨äºŽæ™ºèƒ½æ‰‹æœºçŽ»ç’ƒç›–æ¿ã€ç›¸æœºé•œå¤´ã€å¯ç©¿æˆ´è®¾å¤‡è¡¨é¢çš„æŠ—指纹'ü/span>AF)ã€é˜²åˆ®æ“¦ï¼‡ü/span>HardCoat)ç‰åŠŸèƒ½é•€è†œçš„åº•å±‚æˆ–ç»„æˆéƒ¨åˆ†ï¼Œå¢žå¼ºè€ç”¨æ€§ä¸Žç”¨æˆ·ä½“验ã€ü/span>
é˜»éš”è†œï¼šåœ¨æŸ”æ€§ç”µåæˆ–高端包装领域,沉积纳米级SiO₂薄膜å¯ä½œä¸ºä¼˜å¼‚的水氧阻隔层ã€ü/span>
å¯¹åŽŸæ–™çš„æ ¸å¿ƒè¦æ±‚ï¼šé•€è†œåº”ç”¨å¯¹æºææ–™çš„çº¯åº¦ï¼ˆå°¤å…¶æ˜¯ç¢±é‡‘å±žå’Œè¿‡æ¸¡é‡‘å±žå«é‡ï¼‰ã€æ‚è´¨å…ƒç´ çš„æŒ¥å‘æ€§ã€é¢—ç²’å½¢è²Œä¸Žç²’åº¦åˆ†å¸ƒæœ‰ç€æžå…¶è‹›åˆ»çš„è¦æ±‚。微é‡çš„æ‚è´¨å¯èƒ½å¯¼è‡´è–„膜出现针å”ã€å˜è‰²æˆ–电å¦ç¼ºé™·ã€‚å®¹ä½°æ–°ææ–™çšƒü/span>5Nå‰ü/span>6Nçº§é«˜çº¯çŸ³è‹±ç ‚ï¼Œå‡å€Ÿå…¶æžä½Žçš„æ‚è´¨å«é‡å’Œå¯æŽ§çš„ç‰©åŒ–ç‰¹æ€§ï¼Œæ˜¯ç”Ÿäº§é«˜ç«¯é•€è†œææ–™çš„ç†æƒ³èµ·ç‚¹ã€ü/span>
我们的价值:我们ä¸ä»…æä¾›åŽŸæ–™ï¼Œæ›´å¯ä¸Žä¸‹æ¸¸é•€è†œææ–™ç”Ÿäº§ä¼ä¸šæ·±åº¦ååŒï¼Œæ ¹æ®ç‰¹å®šçš„镀膜工艺(如溅射速率ã€è’¸å‘温度ã€è–„è†œåº”åŠ›è¦æ±‚ï¼‰ï¼Œå®šåˆ¶åŒ–è°ƒæ•´çŸ³è‹±ç ‚çš„ç‰©æ€§æŒ‡æ ‡ï¼Œä¸?终薄膜性能的优化æä¾›æºå¤´ä¿éšœã€ü/span>
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