设备型号：ZHDS400

镀膜方式：金属 + 有机蒸发

真空腔室结构：SUS304 方箱式，配有前、后�?/p>

真空腔室尺寸：L400mmxW440mmxH450mm

加热温度：室�?300℃（选配（�/p>

基片台尺寸：抽屉式：220mmx220mm可旋转、升降、水冶�/p>

膜厚不均匀性：≤�?.0%�?20mmx120mm范围内）

蒸发源：金属 2 � + 有机 4 组或更多，有机配温控式加热电源，金属电源 （国产或进口（�/p>

晶振膜厚监控仪：国产或进� 多探头可逈�/p>

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可� )

占地面积：L2500mmxW1600mmxH1900mm( 不含手套� )

总功率：� 10kW 三相五线刵�/p>