脉冲等离子PulsPlasma®系统包括真空炉室，辅助加热系统，保温系统，温度测量系统，炉室开关系统，工艺气体循环系统，冷却系统，工艺控制系统以及离子发生器系统。这其中的离子发生器系统是普发拓普公司的**设计，可以完全避免打弧现象的发生而且节能效果明显。炉体卧式设计，适合处理大型零件的处理。根据设备的大小，加热控制区至少配有三组独立控制升温和降温的加热器，通过这些独立控制的加热器获得**的均温性、�br/>

工艺特点９�/strong>

• 通过热壁技术实现良好的均温�?/p>

• 能源有效利用，工艺气体消耗少，无污染气体

• 灵活的渗氮温度，温度范围 300 � - 600 ℂ�/p>

• 白亮层可�?/p>

• 可处理不锈钢

• 可处理烧结钢

• 可处理钛合金

• 可处理高合金钡�/p>

设备特点９�/strong>

• 不产生打弧，工件表面无破坎�/p>

• 全自动工艺控制，工件内部测温

• 台车式装载系统，多达40吨的装载野�/p>

• 独特的加热和控制系统，至�?区独立的加热和冷却区埞�/p>

• 控制区温度均匀分布

• 独有的PulsPlasma®电源，电压和电流近乎方波，几微妙内获徖�/p>

• 设定的全部脉冲电流，主动抑制打弧监测（开关时�?lt; 0.1 µs（�/p>

• 电源可升级至5年质俜�/p>

• 可在低温下对工件表面进行等离子清洖�/p>

• 航天保温材料，热容量低，功率损耗低，节省重野�/p>