应用
研究了溅射金膜对氧化é“陶瓷在真空环境中ã€çº³ç§’脉冲高电压作用下沿é¢é—ªç»œç‰¹æ€§çš„å½±å“规律.通过对氧化é“陶瓷表é¢ç²—糙度ã€ç”µæžæŽ¥è§¦å½¢å¼çš„研究,并结åˆè¡¨é¢æ€é™·é˜±ã€ç•Œé¢èƒ½å¸¦ç»“æž„ã€ç”µè·æ³¨å…¥è¿‡ç¨‹çš„分æž,æŽ¢ç©¶äº†å½±å“æ°§åŒ–é“é™¶ç“·æº…å°„é‡‘è†œåŽæ²¿é¢é—ªç»œç”µåŽ‹çš„ä¸»è¦åŽŸå› .åœ?0 ns/1.2μs脉冲下ã€ç”µæžé—´è·?0 mmæ—?测é‡å„试样的闪络电压60æ¬?å–åŽ30次平å‡å€¼ä½œä¸ºç¨³å®šçš„闪络电压.研究结果å‘现,氧化é“陶瓷在溅射金膜电æžè¯•样的闪络电压比直接压接电æžè¯•样的闪络电压低,这是因为在ä¸åŒç”µæžæŽ¥è§¦æ–¹å¼ä¸‹,氧化é“é™¶ç“·ææ–™çš„è¡¨é¢æ€å¯¹çœŸç©ºä¸­çš„电å­å‘å°„å’Œææ–™è¡¨å±‚çš„ç”µè·æ³¨å…¥çš„å½±å“ä¸åŒæ‰€è‡? ...

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2011-11-03

应用
ç›®çš„æŽ¢è®¨æ°§åŒ–é“æ¸—é€é™¶ç“·åŸºä½“中添加的氧化锆质é‡åˆ†æ•°ç”?增加è‡?0.0%æ—?æ°§åŒ–é“æ¸—é€é™¶ç“·åŠé€æ€§çš„å˜åŒ–。方法按氧化锆å åŸºä½“è´¨é‡åˆ†æ•°çš„ä¸å?分别设氧化锆质é‡åˆ†æ•°ä¸?ã€?.5%ã€?.0%ã€?.5%ã€?0.0%ã€?0.0%å’?0.0%å…?个组。å„组ç»åŸºä½“烧结åŠçŽ»ç’ƒæ¸—é€åŽæ‰“磨抛光,采用光谱扫æè‰²åº¦ä»ªæµ‹é‡é€å°„çŽ?并用白度色度计测é‡å¯¹æ¯”度。结果éšç€æ°§åŒ–锆质é‡åˆ†æ•°ç”±0增加è‡?0.0%,æ°§åŒ–é“æ¸—é€é™¶ç“·çš„é€å°„率由0.406%é™ä½Žè‡?.058%,对比度由0.849±0.005增加è‡?.015±0.006。氧化锆质é‡åˆ†æ•°ä¸?0.0%æ—?对比度为0.990±0.008;氧化锆质é‡åˆ†æ•°é«˜äº?0.0%å?é€å°„率的下é™è¶‹åŠ¿åŠå¯¹æ¯”度的增高趋势å˜å¹³ç¼“。结论氧化锆质é‡åˆ†æ•°å¯¹æ°§åŒ–铿¸—é€é™¶ç“·çš„é€å…‰æ€§æœ‰ç›´æŽ¥å½±å“。氧化锆质é‡åˆ†æ•°ä¸?0.0%æ—?æ°§åŒ–é“æ¸—é€é™¶ç“·å·²åŸºæœ¬ä¸é€å…‰;高于10.0%æ—?对é€å…‰æ€§çš„å½±å“作用é™ä½Žã€?..

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2011-11-03

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