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光学仪器及设夆/a>
制样/消解设备
3D纳米结构高速直写机 源自IBM**研发成果NanoFrazor纳米3D结构直写朹/strong>的问世，源于IBM苏黎世研发中心在纳米加工技术的**研究成果、/p> NanoFrazor纳米3D结构直写朹/strong>**次将纳米尺度下的3D结构直写工艺快速化、稳定化。通过静电力精确控制的直写垂直精度高达2nm，可以将256级灰度反映的高度信息精细的转移到直写介质上、/p> 该技术自问世以来已经多次刷新了世界上*?D立体结构的尺寸，创造了世界?小的马特洪峰模型?小立体世界地图，*小刊物封面等世界记录、/span> |
独特的直写与反馈流程 与以往使用AFM技术进行纳米刻蚀的尝试不同，NanoFrazor为了获得可靠的稳定性和可重复性，重新开发了直写流程９/span> |
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| PPA(聚苯二醛) 直写胵/strong>涂敷在样品表面、strong>背热式直写探钇/strong>，针尖温度可?00~400℃。与针尖接近的PPA受热瞬间分解，周围部分由于PPA热导率低而不受影响、strong>热针震动模式直写，直写时探针加热，每次下针幅度受静电力控制，垂直精度2nm，从而写?D图形、strong>冷针接触模式扫描，回程扫描时探针冷却，由侧壁的热感应器探测样品高度变?精度0.1nm) 获得样品形貌。反馈数据修正下一行直写、/span> | |
独有的直写针尖设讠/span> |
普通的AFM针尖无法满足上述NanoFrazor直写流程的需求，因此NanoFrazor所用针尖是由IBM专门研发设计的。该针尖具有两个电阻加热区域，在针尖上方的加热区域可以加热到1000oC，从而使针尖的温度达?00~400oC。第二处加热区域作为热导率传感器位于侧臂处，其能感知针尖与样品距离的变化，精度高?.1nm。因此在每行直写进程结束后的回扫结构时，并不是通过针尖起伏反馈形貌信息，而是通过热导率传感器感应形貌变化，从而实现了比AFM?000余倍的扫描速度，同避免了针尖的快速磨损消耗、/span> |
| NanoFrazor纳米3D结构直写优势 | |
| 1.可以几乎实时观察直写结果，而不需要显影、定影、观测的传统步骤，因此能够及时发现设计问题，缩短结构、工艺开发周期、/span>2.因为每行直写参数都根据上一行直写结果进行了修正，所以避免了样品平整度、温度变化等带来的误差，有效地解决了热漂移带来的精度问题、/span>3.能够通过扫描结果进行定位，二次套刻精度高达３nm.4.以样品表面形貌为特有标定物的拼接技术，将NanoFrazor的不同直写区域（Max.75um x 75um）的拼接误差控制?0nm左右、/span>5.与电子束曝光相当的２Ｄ纳米直写能力：l超快的直写速度，约相当于普通AFM扫描速度?000倍，而与电子束曝光速度相当l高达10nm的half pitch分辨率、/span> | |
| 图形转移通过NanoFrazor3D纳米结构直写机获得的纳米图形结构，可以通过传统成熟的工艺技术，如干法刻蚀，电镀?/span>注射成型法等进行图形转移、/span> | ||
RIE干法刻蚀 |
RIE+Lift off |
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电镀 |
注射成型 |
其他功能 l纳米颗粒有序定位排列 l纳米局部化学反应诱寻/span> l表面化学图案、结构生戏/span> |
纳米颗粒有序定位排列 |
氧化石墨烯的定位还原 |
| 应用领域 | |||
快速原型设计开叐/span> l衍射透镜，全息图 l非球面微透镜阵列 l波导纤维、光子晶佒/span> lMEMS/NEMS l表面等离子激元，超材斘/span> l纳米磁学 l纳米电子器件 l生物细胞研究 l纳米流体控制 l反物质物理学 |
微纳结构 l防伪标识 lDFB激光?/span> lASICs的关键部位加?/span>模板加工 l光掩模板 l纳米压印印章 l注射成型模具 |
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