产品简今/div>
中微具有自主知识产权的MOCVD设备PRISMO A7®可配置多?个反应腔,可以同时加?36?英寸晶片?6?英寸晶片,工艺能力还能延展到生长8英寸外延晶片。每个反应腔都可以独立控制,这一设计可以实现优异的生产灵活性、/p>
产品特点
可独立控制的反应腔运行模弎/p>
自主的实时监控系绞/p>
精准的参数控刵/p>
全自动化处理
符合半导体标准的软件控制系统
- 推荐产品
- 供应产品
- 产品分类
- Plasma Scrubber等离子式废气处理设备
- PRISMO D-BLUE®MOCVD设备
- Primo SSC AD-RIE®刻蚀设备
- Primo AD-RIE®第二代电介质刻蚀设备
- Primo iDEA®双反应台刻蚀除胶一体机
- Primo Twin-Star® 12 英寸刻蚀设备
- PRISMO A7® MOCVD设备