利用KMnO4和MnCl2在高浓度KOH溶液中发生氧化还原反?再经200℃保?8 h后合成K^+插层的?MnO2纳米材料,之后利用过硫酸铵进行质子?并以氧化石墨烯水溶液作为溶剂制备氧化石墨?GO)复合?层状MnO
2020?4?4?nbsp;更新研制了一种由?-氨基苯甲?石墨烯复合物修饰的新型碳糊电?用循环伏安法 (CV)和线性扫描伏安法 (LSV)研究了L-酪氨 (L-Tyr)在该复合修饰电极上的电化学行?用标准加入法测定食品中L-酪氨酸的含量.结果表明
2020?4?3?nbsp;更新通过金属离子(二价铜离子、三价铁离子)配位的方?增强了氧化石墨烯(GO)与聚甲基丙烯酸甲?PMMA)之间基体-填料的相互作?实现了GO/聚合物复合材料的抗拉伸性能和热稳定性的大幅提升.采用红外光谱对聚合物基体加入GO咋/p>2020?4?0?nbsp;更新
基于非共线磁序密度泛?非平衡格林函数方?研究了硼或氮掺杂的锯齿型石墨烯纳米带的非共线磁序与电子透射系数.未掺杂的石墨烯纳米带的计算结果表明磁化分布主要遵循类似于Neel磁畴壁的螺旋式磁化分?相比于未掺杂的情??氮掺
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