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德Zeiss电子束直写仪SEM 型号:Zeiss Sigma SEM
主要功能9/strong>
利用曝光抗蚀剂,采用电子束直接曝光,可在各种衬底材料表面直写各种图形,图形结构(*小线宽为10mm),是研究材料在低维度、小尺寸下量子行为的重要工具。广泛应用于纳米器件,光子晶体,低维半导体等前沿领域、/span>
技术指标:
肖特基热场发射电子源
加速电压:100V?0kV
放大倍率?2X?000?00X
SEM分辨率:1nm@30kV?.5nm (15kV)?.8nm?kV(/p>
电子束曝光:10nm?0kV(/p>
场拼接精度:<100nm
扫描频率?MHz
图形格式:GDSII
暂无数据
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