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德国海德堡Heidelberg激光直写光刻机MLA150
德国高精密激光直写绘图机
非接触式曝光
可支持高效数位光刻与灰度光刻
MLA150专为便于操作而设计，涵盖过去30年中开发的激光直写设备的所有技术知识。它提供了单层和多层应用所需的所有功能，由于MLA150曝光是非接触式的，因此它可以克服无光罩曝光技术的局限性、/span>
与其他图形产生器不同的地方不仅在于MLA150易于使用，还有极快的曝光速度。使用小?微米的结构曝?00x100mm2的区域仅需要不?0分钟。透过使用三个不同分辨率的集成摄像头，可在2分钟内完成多层应用中的套刻对位，套刻对准精度优于500nm、/span>
MLA150无光罩激光直写设备直接曝光图形的灵活性能，可提升在Life Science MEMS Micro-Optics Semiconductor Sensors Actuators MOEMS Material Research Nano-Tubes Graphene及任何其他需要微结构等领域的工作效率、/span>
功能
基板? x 9“/span>
标准片1m结构
高分辨率版本:结构可达600纳米
2暴露面积150 x 150毫米(200 x 200平方毫米可?
非接触式曝光
光源?05 nm?75 nm
基于SLM光引操/span>
多种数据输入格式
校准精度?00纳米
背面对齐
实时自动对焦
抵制数据庒/span>
自动标记和序列化
暂无数据
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移动?/p>
工商已核宝/p>
