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薄膜沉积设备PECVD MVS
MVSystems Inc. 由曼登博士（Dr. Arun Madan）创建于1989年、/p>
曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔（Walter Spear)教授，是1970年代*早从事非晶硅材料和器件研究的人员之一、/p>
曼登博士在非晶硅薄膜晶体管（TFT)方面进行了开创性的研究，这是他的博士论文的主要内容之一。非晶硅薄膜晶体管现已成为平板显示器中必不可缺的重要器件、/p>
公司在薄膜半导体技术和先进的高真空半导体薄膜沉积设备方面拥?4?*，包括：
多腔室PECVD沉积系统 主要产品 ? 用于柔性衬底的Reel-to-reel多室系统 - 主要产品
碳热丝化学气相沉积设 掺氟纳米硅（微晶硅）材料
P型宽带隙非晶硅材 掺氟二氧化锡绒面透明导电膜（与日本Asahi公司合作（/p>
公司生产制造的80多台设备已销往全世?3个国家和地区、/p>
公司生产的主要薄膜材料和器件产品包括９/p>
材料
器件
非晶硅（a-Si:H)
薄膜硅太阳电江/p>
纳米(微晶) (nc-Si)
薄膜晶体箠/p>
氮化?SiNx)，氧化硅(SiOx)，氮氧化?SiON)
成像器件
氧化?AZO)，铟锡氧化物(ITO) 二氧化锡(SnO2)
X光探测器
MVSystems公司设计，制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外，根据用户的需求，各种
PECVD，HWCVD，和PVD腔室可以单个制造，也可配备到现有的团簇型（星型）或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想，以使用户们获取他?需要的且价格合适的设备、/p>
R&D to
Production
可用于研发和生产
?PECVD
等离子化学气相沉?/p>
?HWCVD
热丝化学气相沉积
?Sputter
溅射
?Anneal
退火处琅/p>
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系绞/p>
15.6x15.6cm substrates
衬底尺寸?5.6x15.6cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
PECVD HWCVD and Sputter capability
制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅尃/p>
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 10 port locations
具有10个腔室的团簇型沉积系绞/p>
15.6x15.6cm substrate
衬底尺寸?5.6x15.6cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
PECVD HWCVD Sputter capability and in-vacuum characterization module
制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，以及溅射。另外，该系统还带有一个测试腔 用于在真空中测试所制备样品的光电子性能、/p>
R&D Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系绞/p>
30x40cm substrate
衬底尺寸?0x40cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
PECVD HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅射、/p>
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设夆/p>
In-Line PECVD system for HIT junctions
用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系绞/p>
Throughput: 18
Reel to Reel Cassette System
Cassette houses flexible material
卷筒用于装载柔性衬底材斘/p>
Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler
制备薄膜时，卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔宣/p>
Advantages 此沉积系统的优点
- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响
- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时，能灵活控制各种运转沉积参?/p>
- Down time reduced i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护，减少了停机非运转时
Reel to Reel Cassette Cluster tools
Cluster tool w/ 8 port locations
具有8个腔室的团簇型沉积系绞/p>
15cm and 30cm webwidth
柔性衬底的宽度可从15cm?0cm
Computer controlled
可完全由电脑程序控制操作运行
PECVD HWCVD and Sputter capability
制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积，及溅尃/p>
Amorphous silicon- intrinsic and doped (n+ and p+ type).
非晶硅本征和掺杂(n+ and p+ ?膜、/p>
Nano (or micro) crystalline silicon (intrinsic and doped)
纳米（或者微晶） (本征和掺?膜、/p>
Dielectrics (SiNx SiOx)
介质薄膜(如SiNx SiOx)、/p>
Transparent conducting oxides (ITO AZO)
透明导电薄膜 (如ITO，AZO)、/p>
Solar cells TFT’s imaging and memory devices etc. 太阳电池，非晶硅薄膜晶体管，电子成像和存储器件等、/p>
In-house Cluster Tool
Substrate: 30x40cm
DC RF pulsed-RF VHF
暂无数据
PECVD MVS的工作原理介绍？PECVD MVS的使用方法？PECVD MVS多少钱一台？PECVD MVS使用的注意事顸/li>PECVD MVS的说明书有吗＞/li>PECVD MVS的操作规程有吗？PECVD MVS的报价含票含运费吗？PECVD MVS有现货吗＞/li>PECVD MVS包安装吗＞/li>
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