看了SiC衬底化学机械抛光机的用户又看亅/p>
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名称 | CMP 化学机械抛光朹/span> |
型号 | CAP-H2 |
作业模式 | 干进干出 |
适用工艺 | SiC 衬底抛光 |
对应产品 | 4~8inch |
CMP table | 2 pcs |
Contour head | 分区压力控制 |
公司成立?024年,是一家集机械设计、电气研制、软件开发、精密制造于一体的装备制造商、span style="color: rgb(101, 113, 128); font-family: -apple-system-font, BlinkMacSystemFont, "PingFang SC", "Microsoft YaHei UI", "Microsoft YaHei", sans-serif, Arial; font-size: 14px; text-wrap-mode: wrap; background-color: rgb(255, 255, 255);">创生源制造基地位于江?宿迁, 分别在无锡、宿迁、太原设立分公司及工程研发中心,先后获得6?**?1项实用新?*?0项软件著作权,同时公司通过了ISO9001质量管理体系认证、GJB9001C武器装备质量管理体系认证、ISO14001环境管理体系认证、ISO45001职业健康安全管理体系认证,荣获国家高新技术企业、江苏省民营科技企业等荣誉称号、/span>
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