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碳化硅衬底用抛光液系列（COPOL系列（/span>品牌
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COPOL-133 |
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在Si面具有较好的去除率表?br style="box-sizing: border-box; animation-fill-mode: both; padding: 0px; margin: 0px;"/> 抛光后表面缺陷较少，Si面粗糙度?.06nm |
采用纳米级氧化硅磨料，抛光后表面无划伤，良品率高 |
采用较软的氧化硅作为磨料 |
COPOL-233 |
COPOL-235 |
COPOL-236 |
具有良好的去除率表现 |
采用150nm级氧化铝磨料，酸性氧化铝抛光涱br style="box-sizing: border-box; animation-fill-mode: both; padding: 0px; margin: 0px;"/> 具有较高的抛光速率 |
采用150nm级氧化铝磨料，碱性氧化铝抛光涱br style="box-sizing: border-box; animation-fill-mode: both; padding: 0px; margin: 0px;"/> 抛光后表面无划伤，良品率髗br style="box-sizing: border-box; animation-fill-mode: both; padding: 0px; margin: 0px;"/> 抛光速率高且稳定，循环使用寿命长 |
COPOL-431 |
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更多产品请联系我?/span> |
具有较高的抛光速率 |
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