参考价栻/p>面议
型号
MYH-SOP05品牌
铭衍浶/span>产地
江苏样本
暂无
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|?平/p>|
生产啅/p>
工商已核宝/p>
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铭衍海微电子抛光
铭衍海微电子MYH-SOP05
国产抛光
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氧化硅抛光液MYHSOP05
一、产品简今/span>
MYHSOP05 是铭衍海(MYHMICRO)研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光涱/span>,属于超精密终抛垊/span> CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳 SiO₁/span>为磨料,采用稳定碱性水性体系,经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成,专为半导体、光学、显示面板、蓝宝石等材料的纳米级超精密抛光设计、/span>
其突出特点是低缺陷、高洁净、高平坦、易清洗,可实现原子级表面光洁度,广泛用于各类硬脆材料的*终精抛工序,性能对标进口高端氧化硅抛光液,性价比与供货稳定性优势明显、/span>

二、核心产品参?/span>
·产品型号9/span>MYHSOP05
·外观:半透明液体,无沉淀、无分层
·核心磨料:纳米胶体二氧化硅(SiO₁/span>(/span>
·一欠/span>粒径nm9/span>3-10 nm
·pH 值(25℃)9/span>9.5-10.5
·包装9/span>1kg/桶,9kg/箰/span>
·保质期:未开?/span> 6 个月
三、产品特炸/span>
1.超精密低缺陷抛光
5nm 超细粒径 + 单分散球形颗粒,抛光后表面粗糙度 Ra?.2 nm,无划痕、麻点、橘皮纹,亚表面损伤极低,适合终抛镜面加工、/span>
2.超高纯度与高洁净?/span>
多级纯化工艺,重金属离子含量极低,可有效避免半导体、光学器件的离子污染;不含氯、硫、磷叉/span> VOC,环保安全、/span>
3.分散稳定、工艺友奼/span>
体系稳定性强,长期存放不沉降、不团聚,适合自动化连续产线使用;化学作用温和,去除速率稳定可控,不易过抛、/span>
4.易清洗、无残留
水性体系亲和性好,抛后工件易冲洗,无磨料残留,不影响后续镀膜、键合、封装等工序、/span>
5.通用性强、适配广泛
可原液使用或轻度稀释使用,兼容聚氨酯垫、麂皮垫等多种抛光垫,适配多类硬脆材料精抛、/span>
6.国产替代、高性价毓/span>
性能对标国际高端5nm 氧化硅抛光液,成本更低,交期稳定,支持批量供货与参数定制、/span>
四、应用领埞/span>
·半导体微电子
硅晶?终精抛?/span>ILD 层间介质 CMP、化合物半导体(GaAs、InP 等)抛光、光掩模精抛、/span>
·高端光学元件
光学镜头、棱镜、滤光片、光纤连接器、激光晶体、石英元件的超精密镜面抛光、/span>
·显示与消费电孏/span>
LCD/OLED 玻璃基板、手机盖板玻璃、摄像头玻璃、手表镜面精抛、/span>
·蓝宝石与晶体材料
蓝宝石衬底、窗口片、铌酸锂、钽酸锂等晶体精抛、/span>
·精密陶瓷与硬脆材斘/span>
氧化铜/span> / 氧化锆陶瓷、陶瓷轴承、密封件、硬盘盘片精抛、/span>
五、使用建?/span>
·推荐使用方式9/span>原液直接精抛,高要求场景?/span> 1:1?:3 去离子水稀释、/span>
·适配抛光垫:精抛聚氨酯垫、麂皮垫、高密度无纺布垫、/span>
·后处理:抛后用去离子水或中性清洗剂冲洗,超纯水漂洗干燥、/span>
·储存9/span>5?5℃密封避光保存,避免冻结与高温暴晒、/span>
暂无数据
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