参考价栻/p>面议
型号
VHCgr-20/20/30-1600品牌
皓越科技产地
上海样本
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生产啅/p>
工商已核宝/p>
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非金属电热元件：
其他金属电热元件９/p>其他
烧结气氛９/p>真空
温控精度９/p>-
最高温度：
1600ℂ/span>额定温度９/p>-
皓越科技粉体焙烧炈/p>
皓越科技VHCgr-20/20/30-1600
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一、C2GR16-气相沉积炉基本原理与特点
1.基本原理９br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>热诱导化学气相沉?英语:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各种电介质,半导体和金属材料的保护涂层的沉积的有力方式，无论是单晶，多晶，无定形或外延状态上或大或小的形态。典型的涂层材料包括热解碳，碳化硅，氮化硼。通过使用合成前体，涂层非常纯净并目满足半导体工业的典型要求，根据工艺参数，可以有多种层厚度，从单个或几个原子层到厚度从10纳米到数百微米的固体保护层或功能层，以及厚度?00微米的单片部件，甚至高达数毫籲a>、br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>2.设备特点９br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）采用卧式、侧开门结构，装、卸料精度高，操作方便；
?）采用优良的控制技术，能精密控制MTS的流量和压力，炉膛内沉积气流稳定，压力波动范围小：br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）温度均匀性好，平均温度均匀性为±5℃；
?）采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好：br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）全封闭沉积室，密封效果好，抗污染能力强：br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）安全性能好，采用HMI+PLC+PID程序控制，安全可靠；
?）对沉积产生的高腐蚀性尾气、易燃易爆气体、固体粉尘及低熔点粘性产物能进行有效处理：br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）多级高效尾气处理系统，环境友好，能高效收集焦油及副产物，易清理：br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>?）采用设计防腐蚀真空机组，持续工作时间长，维修率极低、br style="margin: 0px; padding: 0px;"/>二、C2GR16-气相沉积炈/strong>主要技术参数：
| 1 | 编号 | C2GR16 |
| 2 | 产品型号 | VHCgr-20/20/30-1600 |
| 3 | **设计温度（℃（/td> | 1600 |
| 4 | 加热元件 | 等静压石?/td> |
| 5 | 加热功率（kW（/td> | 45 |
| 6 | 冷态极限真空度（Pa（/td> | 6.7x10-3Pa（空炉、冷态、经净化） |
| 7 | 测温元件 | 钨铼热电偵/td> |
| 8 | 升温速率 | 1~20?min |
| 9 | 温度均匀?/td> | ±5℃（5点测温，恒温?000℃保?h后检测） |
| 10 | 炉膛尺寸（mm（/td> | 200x200x300（WxHxD（/td> |
| 11 | 可通入气氛 | 1路CH3SiCI3?路氨气?路氢气?路氮氓/td> |
| 12 | 气氛流量讠/td> | 4路质量流量计 |
| 13 | 设备外形尺寸（mm（/td> | 1425x1550x1850mm(LxWxH) |
三、化学气相沉积炉(CVD气相沉积?产品展示图：
暂无数据
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