参考价栻/p>1万元以下
型号
D101S/D16S/D18S/D20S/D22S 垊/span>品牌
产地
日本样本
暂无全容积(m³):
200L能耗:
0.88A/ 0.4A处理量:
200L物料类型9/p>液体、固体、粉末、粘稠液体、浆料等
工作原理9/p>立式
森泽混合朹/p>
森泽D101S/D16S/D18S/D20S/D22S 垊/p>
国产混合朹/p>
看了日本 ISHIKAWA 石川 D系列 台式标准型自动研 擂溃分散搅拌机的用户又看亅/p>
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石川式自动乳钵(正式名称:石川式搅拌研磨机)D系列是一种台式设备,它凭借独特的双旋转结构以及精确的负载控制功能,能够精准模拟手工操作乳钵的工作方式,同时实现均匀的混合、分散和粉碎过程。该系列产品可满足从研究用途到大规模生产的各种需求,因此提供了多种处理能力及不同结构配置的型号、/span>
实验室中极容易操作的“标准模型“/span>
可从极少量到少量,广泛满足不同需汁/span>
结构紧凑的研?研棒,便于清洁,非常适合日常使用、/span>
节省空间的同时仍保持稳定的处理性能
D16S — 1本乳棒的主力型号(推荐加工容量:400毫升(/span>
结构简单,易于操作的小型至中型型号
也能稳定处理高粘度材斘/span>
许多实验室都在采用的、可靠性极高的模型
作为规模扩张的起点,极为理想、/span>
2个研钵,擅长处理高粘度浆料及纳米材料的分散、/span>
MWCNT分散案例众多,作为初次分散处理效果优弁/span>
其特点是混合效率高且重复性好、/span>
即使在高负荷条件下也能稳定运衋/span>
2根搅拌棒带来的强大混合能力与处理野/span>
即便容量很大,也能实现均匀度高的一致分布、/span>
适用于规模扩展验证与大规模测诔/span>
即使是对高粘度浆液进行大规模处理,也能保持稳定、/span>
实现D系列极高的处理量
专为大型研钵设计的优异搅拌力与耐用?/span>
也可用于工厂试制及量产前的工序、/span>
即使是对大量高粘度材料,也能实现均匀处理
借助乳棒的双重旋转机构,能够形成复杂的轨迹,从而均匀地卷入物料,同时实现搅拌、粉碎、混合等功能、/span>
通过让乳棒倾斜接触,可将材料聚集到中心,从而减少处理不均匀的情况、/span>
无论材料用量如何,乳棒接触力均保持稳定,从而确保重复性、/span>
电池材料(活性物质・导电助剂)的混合与分敢/span>
MWCNT、碳黑等纳米材料的分敢/span>
药品及化学试剂的配制
陶瓷与复合材料的均匀混合
树脂、油墨、浆料类的试刵/span>

?1)旋转方式“OR式”:研磨钵不旋转,而是让研磨棒进行两次旋转,同时研磨钵可自由转动的机制
型式 D101S D16S D18S D20S D22S 推荐加工容量(L) 0.2 0.4 1 2 4 旋转方式 OR (*1) 转 (转/分钟 8?0 8?0 8?0 8?0 8?5 磁器乳钵 内径(mm) 115 155 203 254 305 深度(毫米) 67 85 114 140 170 加工容积 (L) 0.2 0.4 1 2 4 机械外寸 奥行(mm) 330 378 436 510 562 ?mm) 242 258 273 346 396 高度(毫米) 340 398 466 550 582 电源 单相 100?20伏特 (瓦特) 60 90 90 100 200 乳棒类型/数量 T?1 T?1 防尘/2 防尘2 防尘/2 刮棒(特氟龙 重量(kg) 15 20 30 40 50型式 D101S D16S D18S D20S D22S 推荐加工容量(L) 0.2 0.4 1 2 4 旋转方式 OR (*1) 转 (转/分钟 8?0 8?0 8?0 8?0 8?5 磁器乳钵 内径(mm) 115 155 203 254 305 深度(毫米) 67 85 114 140 170 加工容积 (L) 0.2 0.4 1 2 4 机械外寸 奥行(mm) 330 378 436 510 562 ?mm) 242 258 273 346 396 高度(毫米) 340 398 466 550 582 电源 单相 100?20伏特 (瓦特) 60 90 90 100 200 乳棒类型/数量 T?1 T?1 防尘/2 防尘2 防尘/2 刮棒(特氟龙 重量(kg) 15 20 30 40 50
钵体固定,乳棒同时公 + 自转,柔和揉搓分散,不易破坏晶体结构,粉体、浆料均匀性好,试验重现性稳定
一、工艺痛点静电卡盘(ESC)制造中,陶瓷生片电极印刷常见难点:大尺寸生瓷片薄、易形变,普通真空吸附易造成薄片翘曲、对位偏移电极层厚度不均、离模拉扯导致线条毛刺、断线,直接影响静电吸附均匀性浆料(导电
2026-08-18
一、工艺痛点贵金属首饰滚筒抛光工序常见难题:频繁抛光工况下,磨 / 磨头损耗快,传统机型拆装更换耗时,停机久、产能低金银软质贵金属易过抛、边角塌边,转速与翻滚状态不好管控,成品光泽不均小件戒指、吊坟/p>
2026-08-18
日本ICC UCR-150N-S极低温反应机 技术综述及小试应用场景摘要:日 ICC UCR-150N‑S 极低温反应机(UC反应器)是一款面向化学合成、低温结晶、光化学反应、真空冷阱捕集、特种环墂/p>
日本 ISHIKAWA 石川 D系列 台式标准型自动研 擂溃分散搅拌机的工作原理介绍>/li>
日本 ISHIKAWA 石川 D系列 台式标准型自动研 擂溃分散搅拌机的使用方法>/li>
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