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TALD-D 双腔热型原子层沉积系绞/div>
TALD-D 双腔热型原子层沉积系统的图片
参考报价：
面议
品牌９/dt>
嘉兴科民
关注度：
209
样本９/dt>
暂无
型号９/dt>
TALD-D 双腔热型原子层沉积系
产地９/dt>
浙江
信息完整度：
典型用户９/dt>
暂无
认证信息
称： 嘉兴科民电子设备技术有限公号/b>
证：工商信息已核宝br /> 访问量：3135
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ALD系列原子层沉积系统是专门为先进半导体工艺开发的薄膜沉积系统，已在国内高校和科研院所装机超百台。以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评、/p>

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