器简介：射频离子源：用于离子束沉积，离子束辅助沉积，MEMS

射频原子源：用于合成氧化物，氮化物，氢原子清洖�/span>

技术参数：

射频离子溏�/span>

安装法兰口径：NW63CF，NW100CF

真空腔体内长度：290mm

真空腔体内端面直径：57mm� 96mm

兼容气体：O2� N2� H2� Ar

水冷

射频功率�?0-600W

气体流量�?-10sccm

束流能量�?.1-1kev

电流密度：可大到5mA/cm2

射频原子溏�/span>

安装法兰口径：NW35CF，NW63CF，NW100CF

真空腔体内长度：290mm

真空腔体内端面直径：34mm�?7mm� 96mm

兼容气体：O2� N2� H2� CH4

水冷

射频功率�?0-600W

气体流量�?.01-20sccm

主要特点９�/strong>

无灯东�/span>

安装容易，可方便地安装在已有系统三�/span>