1 平/span>

高级会员

已认?/p>

M82200-10UM型PECVD 镀膜设夆/div>
报价9span>面议
品牌9/td> 电子科技
产地9/td> 湖南
关注度: 826
型号9/td> M82200-10UM型PECVD 镀膜设夆/td>
产品介绍
  • 产品简今/p>



PECVD镀膜设备采用直接式等离子体沉积方式,可生产出质?*的晶体硅太阳能电池减反射膜,是业内管径、单管产?*的管式镀膜设备、/article>

单台?管)产能?600?小时(单管装?16?批):br/>

沉膜均匀性好,膜厚均匀性指标可达:片内?%、片间≤3%、批间≤3%;

350?80℃控温范围,同时满足沉积氮化硅膜和退火工艺要求;

采用全套倍福控制系统,自动化程度高( 提供MES接口、远程监控等功能);

全自动上下舟系统,一键全自动工艺和完善的保护报警功能:/p>

送料机构强度、精度、速度、稳定性大幅优于同类产品、/p>

基本参数

成膜种类

氮化硄/span>

装片量与产能

416 牆/span>/批(156x156mm方片),单台5管产能≥3600牆span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">/小时:/p>

在线时间

?span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">98%:/p>

设备功率

峰值功玆/span>≣span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">280KW,平均功率≤70KW:/p>

设备尺寸

7400mm(不含真空泵)Ö/span>2110mm×3530mm'span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">L×W×H);

成膜质量参数

成膜均匀?/span>

片内≣span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">4%、片间≤3%、批间≤3%(膜厚80}span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">120nm);

折射率均匀?/span>

片内≣span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">1.5%、片间≤1.5%、批间≤1.5%(折射玆span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">2}span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">2.2);

温控系统参数

恒温区长度及精度

≤°span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">1ℂspan style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">/1600mm'span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">450℃时);

温度控制范围

200}/span>580℃;

温度控制方式

五段双回路温度控制;

真空系统参数

压力控制

高精?span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">VAT阀控制,控压范図span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">220±40Pa:/span>

石墨舟传输系统参?/span>

石墨舟上料方弎/span>

全自动机械手上下舟,在线弎span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">/离线式对接插片机可选;

控制系统参数

推舟机构

水平速度1~12000mm/min可调,垂直速度1~150mm/min可调,承重≥40KG:/p>

控制方式

高性能工控计算机全自动控制工艺过程,并对工艺参数和工艺流程实时监控:/span>

基本参数

在线时间

?span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">98%:/p>

设备功率

峰值功玆/span>≣span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">280KW,平均功率≤70KW:/p>

设备尺寸

7400mm(不含真空泵)Ö/span>2110mm×3530mm'span style="padding: 0px; margin: 0px; line-height: 1.5em; font-family: calibri;">L×W×H);


问商宵/div>
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的工作原理介绍>/li>
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的使用方法>/li>
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备多少钱一台?
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备使用的注意事项
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的说明书有吗?
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的操作规程有吗>/li>
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的报价含票含运费吗>/li>
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备有现货吗?
  • M82200-10UM型PECVD 镀膜设备包安装吗?
相关产品
更多
NV-75型分子束外延系统

型号 NV-75型分子束外延系统

面议
NV-150型MBE系统

型号 NV-150型MBE系统

面议
激光封焊机

型号 激光封焊机

面议
磁控溅射沉积设备

型号 磁控溅射沉积设备

面议
中国电子科技集团公司第四十八研究所为您提供电子科技M82200-10UM型PECVD 镀膜设备,M82200-10UM型PECVD 镀膜设备产地为湖南,属于半导体行业专用仪器,除了M82200-10UM型PECVD 镀膜设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供磁控溅射沉积设备、NV-150型MBE系统、M5111-8WKUM型高温负压氧化炉设备
工商信息
企业名称

中国电子科技集团公司第四十八研究所

企业类型

信用代码

81430000740639352P

法人代表

注册地址

成立日期

注册资本

有效期限

经营范围

分类

留言咨询

留言类型

需求简?/p>

联系信息

联系亹/p>

单位名称

电子邮箱

手机叶/p>

图形验证?/p>

点击提交代表您同愎a href="//www.znpla.com/m/service/registrationagreement.html" target="_blank">《用户服务协议《/a>叉a href="//www.znpla.com/m/about/privacy.php" target="_blank">《隐私协议《/a>