中国粉体网讯近日，博来纳润全资子公司上海映智研磨材料有限公司院士专家工作站的“碳化硅衬底CMP材料国产化技术突破及产业化应用“案例，获评?025年度上海市院士（专家）工作站（服务中心）优秀案例”、/p>
此次入选的“优秀案例”，不仅代表了映智研磨在技术上的领先性，更体现了公司以院士专家工作站为平台，通过与高校专家团队的紧密合作，博来纳润不仅实现了核心技术的迭代突破，更带动了产业链上下游协同发展，为提升我国CMP材料国产化的整体竞争力注入了强劲动力、/p>
不久前，博来纳润在智造新城高新片区的自有园区项目建设迎来新进展——用?.2米大尺寸抛光垫的核心生产设备已顺利完成进场。该设备的进场安装，标志着博来纳润将具备大尺寸抛光垫的生产制造能力，即大尺寸抛光垫产品量产出货进入倒计时。这将为博来纳润抛光垫类产品的生产注入全新动能，在博来纳润“CMP磨料+抛光?抛光垫”三大类产品所形成的CMP材料整体解决方案的产品矩阵中，打造新支点、/p>
此外，博来纳润自主研发的CMP材料已获多项权威认可：碳化硅CMP抛光液荣获第23届中国国际工业博览会优秀产品奖，自主研发的无纺布抛光垫被评为上海市高新技术成果转化项目，并入选上海市创新产品推荐目录。这些荣誉，正是对博来纳润技术攻关到产业应用全链条创新能力的生动印证、/p>
关于博来纳润９/p>
博来纳润专注于为泛半导体行业平坦化材料提供整体解决方案，致力于电子级纳米氧化硅磨料、泛半导体用CMP抛光液、抛光垫等产品的技术研发和产业化，为半导体衬底等材料的纳米级平坦化提供工艺材料整体解决方案。公司主要产品包括硅溶胶、抛光液、抛光垫，应用领域涵盖碳化硅衬底CMP制程、硅衬底CMP制程、集成电路CMP制程、其他泛半导体材料CMP制程、/p>
公司拥有10余年的CMP研发和产业化基础，其多家子公司为高新技术企业和专精特新企业，现拥有60余位来自国内外知名高校的博士、硕士组成的资深研发团队，具备强大的产品研发迭代能力，其中博士占20%左右，硕士占60%左右，拥有知识产权数十项，是上海市“院士专家工作站”，另有超过10余项发明专利申请进入实质审查阶段。公司与上海集成电路研究院、复旦大学、上海大学、太原科技大学、上海工程技术大学等科研院所、高校建立了长期的CMP材料和工艺相关的产学研合作，具有强大的产品持续更新的研发平台、/p>
参考来源：博来纳润官网
（中国粉体网编辑整理/山林（/p>
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