设备名称：PVD大面积磁控镀膜设夆�/p>

设备型号：JCPF2600

镀膜方式：磁控溅射

真空腔室结构：SUS304 方箱弎�/p>

真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm

极限真空：优� 5.0x10-5Pa

基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm

基片温度：常�?/p>

溅射靶：矩形平面�?套，旋转柱状�?奖�/p>

控制方式：PLC/PC 控制 ( 可� )

占地面积�?5000mmx5000mm

供电总功率：� 20kW 三相五线刵�/p>

1. 大面积，复合型，批量制备，洁净真空不同功能复合涂层制备，可获得更高电池转换效率：�/span>

2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备；

3. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低：�/span>