仪器简介：

在近代科学技术的许多领域中对各种薄膜的研究和应用日益广泛。因此，更加精确和迅速的测定给定薄膜的光学参数已变得更加迫切和重要。在实际工作中可以利用各种传统的方法测定光学参数，如：布儒斯特角法测介质膜的折射率，干涉法测膜厚，其它测膜厚的方法还有称重法、X射线法、电容法、椭偏法等。由于椭圆偏振法具有灵敏度高、精度高、非破坏性测量等优点，因而，椭圆偏振法测量已在光学、半导体、生物、医学等诸多领域得到广泛应用、�/p>

技术参数：

规格与主要技术指标：

测量范围：薄膜厚度范围：1nm-300nm� 折射率范围：1-10

测量*小示值：�?nm 入射光波长：632.8nm

光学中心高：80mm 允许样品尺寸�?#966;10-��140mm，厚度≤16mm

偏振器方位角范围�?��- 180��读取分辨率为0.05��

测量膜厚和折射率重复性精度分别为�?#177;1nm�?#177;0.01

主机重量�?5kg 入射角连续调节范围：20��- 90��精度�?.05��

主要特点９�/strong>

仪器采用消光法自动测量薄膜厚度和折射率，具有精度高、灵敏度高以及方便测量等特点�

光源采用氦氖激光器，功率稳定、波长精度高�

仪器配有生成表、查表以及精确计算等软件，方便用户使用、�/p>