韫茂科技桌面型原子层沉积系统_报价-厦门韫茂科技有限公司

桌面型原子层沉积系统

品牌９�span>韫茂科技
产地９�span>福建
关注度：2161
型号９�span>MINI
报价９�span class="jg_red">面议
信息完整度：

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核心参数

重量（kg）：30Kg
规格外形（长*�?高）９�span>550*400*400mm

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产品介绍

桌面式平片原子层沉积系统

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原子层沉积（Atomic layer deposition)是通过将气相前驱体脉冲交替地這�/span>入反库�/span>腔体内并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种技术，具有自限性和自饱和。原子层沉积技术主要应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜�?nbsp;

产品描述

厦门韫茂科技公司研发的超小型桌式 ALD 原子层沉积设备是先进材料研究的有力设备之一，它可以�?寸晶元（向下兼容）和微纳米粉体上实现均匀可控的原子层沉积，具有广泛的应用领域，设各配有独立控制的300℃完整加热反应腔室系统，保证工艺温度均匀，该系统具有**粉末样品桶、晶元載盘，全自动温控制� ALD 前驱体源钢瓶、自动温度控制阀、工业级安全控制，以及现� RGA � QCM 、臭氧发生器、手套箱等设计选项，是先进能源材料、催化剂材料、新型纳米材料研究与应用�?*研发工具

主要技术参�?/span>

Mini Desktop ALD 技术参� Technical Specifications （HfO2, ZnO, Al2O3, TiO2等制备）
特色 Feature	结构紧凑，世界上极小尺寸的桌式ALD World Smallest Footprint Desktop ALD
功能 Function	高端制造，功能强大，操作简易，维护方便
样品**尺寸	Ф100mm (其他尺寸可定制）硅片或几克粉�?/td>
样品反应温度 Heating	RT-450ℂ�/td>
前驱� Max Precursor	**�?组液态或固态反应前驱体, Max 4 Liquid/Solid Precursors，可定制 Can Be Customized
前驱体加�?*温度 Max Precursor Heating	RT-200ℂ�/span>
包覆均一� Uniformity	<1% (Al2O3)
成膜速率 Deposition Rate	1A/Cycle (Al2O3)
臭氧发生器Ozone Generator	可选配，生产效�?5g/h
人机界面 HMI	全自动化人机操作界面
安全Safety	工业标准安全互锁Industry Safety Interlock，报警Alarm，EMO