看了无掩膜曝光机,激光直写的用户又看亅/p>
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市场上使?05纳米激光器?*分辨?00纳米的结枃/p>
405纳米激光源,可用于要求更高的应?/p>
紧凑型光学模块:使用备用光学模块减少机器停机时间
用户友好操作
独特的研发机伙/p>
405nm光学模块将允许系?小线宽达?span>600纳米
能力
-市场上使用寿命长皃span>405纳米激光器?*分辨率、/p>
-*小线宽达?span>600纳米
-高达4095级的直写灰度
-375纳米激光可用于要求更高的应?span>(选配9span>375纳米激先/strong>)、/p> -光栅模式和矢量模式可用、/p> -软件可控制的写入模式选择、/p> -实时自动聚焦成为可能、/p> -支持仍span>5mm x 5mm?span>125mm x 125mm的基松/p> 操作 -现代的基亍span>Microsoft Windows的用户界面允许用户友好的操作、/p> -高度自动化的处理,一键操作、/p> -远程互联网支?/p> 安装和维抣/p> - MLW-100是一个紧凑的桌面系统,需?小的清洁空间、/p> -紧凑型光学模块:使用备用光学模块来减少机器停机时间、/p> -安装快速方便:除操佛span>PC和真空泵外,所有主要部仵/p> 安装在外壳内、/p> -维护成本*低,无需定期维护、/p> 紧凑型光学模块,具有**的稳定性和短停机时闳/p> 完整的光学路径包含在一个小的可更换模块(光学模块)中。通过尽可能短的优化路径,与传统的优化设置相比,点稳定性大大提高。光学模块包含寿命长皃span>405 nm激光和**光斑形状的光束整形光学元件、/p> 特征9/p> -市场?小的高品质激光束光斑、/p> -集成皃span>650纳米红色激光控制自动对焦系统自动纠正高度变化、/p> -综合剂量控制、/p> -选项:对于要求较低的任务,可以使用全自动NA开关选择较大的光斑尺寸。此开关允许系统使用更大的点以提高速度、/p> 光学特?/p> 激光源405纳米+span>GaN激光器 寿命>10000小时 写入模式9strong>0.6m
工作距离0.9毫米
**强度丹span>3 mW,软件可控、/p>
灰度控制4095?/strong>
自动对焦800 Hz band宽,650nm 红光激光控刵/strong>
-0.3…x?0.3 mm高度变化,带自动高度跟踪、/p>
快速的音圈执行器,精确的实旵span>Z校正、/p>
焦距可通过软件控制进行调整、/p>
正面对准
光学模块配备高分辨率摄像机,用于需要多层的应用。相机图像由高级成像软件处理。自动标记识别使用户很容易找到标记。用户可以设定任何形状作为标记。当在相机的视场中找不到标记时,软件支持区域扫描,以便在更大的区域中自动搜索标记。对齐和图像补偿可以基于一个、两个或三个标记、/p>
正面对准指标9/p>
校准照相机单艱span>520万像素、/p>
像素分辨玆span>1m
*终对准精 <0.5m
修正算法通过扫描和步进轴之间的插值运动进行位置、比例(**5%)、倾斜、旋转(**+/-5度)旋转修正、/p>
MLW-100配备了用于X和Y运动的高精度轴和一个用于Z运动的可选轴。扫描轴(Y)包含一个高精度燕尾形空气轴承,该轴承由带纳米分辨率编码器的直线电机驱动。步进轴(X)采用带直线电机和高分辨率光学编码器的精密滚子轴承。该系统允许极低的机械误差和快速扫描运动。可选的电动控制Z轴具?2 mm行程,以支持各种基板厚度、/p>
用真空吸盘夹紧基板。真空吸盘易于更换,以支持不同的基板尺寸、/p>
机械性能
行程和阶?*115 mm
重复?span><50 nm RMS
分辨玆span>10纳米
扫描速度**200 mm/s
直线度轴 <1m,在100 mm范围
样品厚度9span>0-10 mm手动调整:span>12 mm,安装可选电?span>Z轴、/p>
样品衬底厚度变化**倻span>+/-0.2mm
样品衬底尺寸9span>5mm x 5mm?span>125mm x 125mm
曝光区域9span> 100mm x 100mm
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