留言询价
虚拟号将 180 秒后失效
使用微信扫码拨号
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设夆/strong> MVS
Silicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar Cells
Throughput: >475 wafers/hr
SiNx uniformity: < ?5%
产率9475硅片/小时、/p>
氮化硅膜不均匀性:< 5%、/p>
暂无数据
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的工作原理介绍>/li>
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的使用方法>/li>
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备多少钱一台?
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备使用的注意事项
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的说明书有吗?
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的操作规程有吗>/li>
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备的报价含票含运费吗>/li>
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备有现货吗?
制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备包安装吗?
