非金属电热元件:
其他金属电热元件9/p>其他
烧结气氛9/p>氧气
温控精度9/p>RT-1200℃,精度±1ℂ/span>
最高温度:
-额定温度9/p>-
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真空退火炉是改善薄膜质量的有效手段,在特殊气体氛围下加热还可以改善薄膜的组分。VF-200是致真设备公司推出的一款标准型退火炉,可与公司其他工艺腔体互联实现薄膜的原位退火,也可以单独使用。还可以选配磁铁模块实现对磁性薄膜的诱导,系统搭配控制软件,运行稳定可靠!
性能参数
晶圆尺寸 |
1inch-8inch |
极限真空 |
5×10-8mbar |
温控 |
RT-1200℃,精度±1ℂ/p> |
加热方式 |
SIC辐射加热 |
气体氛围 |
可在O2等环境下加热 |
互联 |
可与工艺腔体互联实现自动传输 |
真空系统 |
机械?分子泴/p> |
可逈/p> |
磁铁模块、进样室、气氛退火等 |
暂无数据
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真空退火炉—VF-200的使用方法?
真空退火炉—VF-200多少钱一台?
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