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设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(不与手套箱连接)
设备型号:JCP500
镀膜方式:磁控溅射
真空腔室结构:立式圆腔前开门结 侧置抽气系统
真空腔室尺寸:?00mm×H420mm
基片台尺寸:Φ150mm
膜厚不均匀性:≤?.0%?00mmx100mm范围内)
基片台加热:室温?00ℂ/span>
基片台水冷:10℃~30ℂ/span>
溅射靶:φ3英吋?3 兼容DC/MF/RF溅射
晶振膜厚监控仪:国产或进口(可选)
控制方式:PLC + 触摸屏控刵/span>
占地面积:L1750mm×W800mm×H1900mm
总功率:?0kW

1.国内技?*、市场占有率**,设计优化,性能稳定,使用维护成本低、/span>
2.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用、/span>
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